| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-41页 |
| 1.1 前言 | 第14-15页 |
| 1.2 基于水滴自组装模板(呼吸图法)制备聚合物多孔膜 | 第15-23页 |
| 1.2.1 呼吸图法简介 | 第15-16页 |
| 1.2.2 呼吸图的形貌控制 | 第16-23页 |
| 1.2.3 呼吸图微孔膜的应用 | 第23页 |
| 1.3 基于反应离子刻蚀技术的图案化模板构筑及应用 | 第23-32页 |
| 1.3.1 图案化结构的简介 | 第23-24页 |
| 1.3.2 基于胶体晶体的刻蚀构筑微图案的方法和应用 | 第24-29页 |
| 1.3.3 基于呼吸图微孔膜的刻蚀构筑微图案 | 第29-30页 |
| 1.3.4 图案化的应用 | 第30-32页 |
| 1.4 基于超临界二氧化碳流体及其膨胀流体制备聚合物多孔膜 | 第32-39页 |
| 1.4.1 超临界二氧化碳流体及其膨胀流体的简介 | 第32-33页 |
| 1.4.2 通过scCO_2制备纳米多孔聚合物材料 | 第33-37页 |
| 1.4.3 通过CXL制备纳米多孔材料 | 第37-39页 |
| 1.5 论文选题和设计思路 | 第39-41页 |
| 第二章 反应性呼吸图法制备纳米尺度的聚合物多孔膜 | 第41-54页 |
| 2.1 引言 | 第41-42页 |
| 2.2 实验部分 | 第42-43页 |
| 2.2.1 试剂 | 第42页 |
| 2.2.2 纳米多孔膜的制备 | 第42-43页 |
| 2.2.3 表面疏水处理 | 第43页 |
| 2.2.4 表征方法 | 第43页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第43-52页 |
| 2.3.1 甲酸气氛下PS-b-P4VP纳米级多孔膜的制备 | 第43-45页 |
| 2.3.2 甲酸气氛下PS-b-P4VP纳米级多孔膜的形孔机理 | 第45-50页 |
| 2.3.3 甲酸气氛下PS-b-P4VP纳米级多孔膜的应用 | 第50-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第三章 基于反应离子刻蚀技术的图案化表面构筑及应用 | 第54-72页 |
| 3.1 前言 | 第54-55页 |
| 3.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 3.2.1 试剂 | 第55页 |
| 3.2.2 二维胶体晶体的制备方法 | 第55页 |
| 3.2.3 纳米环的制备 | 第55-56页 |
| 3.2.4 图案化碳纳米管的生长 | 第56页 |
| 3.2.5 图案化硅片的制备 | 第56页 |
| 3.2.6 表征方法 | 第56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-70页 |
| 3.3.1 单层胶体晶体的制备 | 第57-59页 |
| 3.3.2 基于反应离子刻蚀法制备纳米环阵列 | 第59-60页 |
| 3.3.3 纳米环阵列的调控 | 第60-61页 |
| 3.3.4 纳米环化学组分的确认 | 第61-64页 |
| 3.3.5 纳米环的形成机理 | 第64-65页 |
| 3.3.6 图案化催化剂模板的应用 | 第65-66页 |
| 3.3.7 图案化硅片的制备 | 第66-70页 |
| 3.4 本章总结 | 第70-72页 |
| 第四章 基于超临界二氧化碳法制备聚合物多孔结构 | 第72-87页 |
| 4.1 引言 | 第72-73页 |
| 4.2 实验部分 | 第73-75页 |
| 4.2.1 试剂 | 第73-74页 |
| 4.2.2 气体膨胀液体选择溶胀法制备聚合物多级孔结构 | 第74页 |
| 4.2.3 超临界流体选择溶胀法制备聚合物微纳结构 | 第74-75页 |
| 4.2.4 具有微纳结构的PS-PFOA聚合物膜的应用探索 | 第75页 |
| 4.2.5 表征方法 | 第75页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第75-86页 |
| 4.3.1 气体膨胀液体选择溶胀法制备聚合物多级孔结构 | 第75-79页 |
| 4.3.2 超临界流体选择溶胀法制备聚合物微纳结构 | 第79-86页 |
| 4.4 本章总结 | 第86-87页 |
| 第五章 结论 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-103页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第103-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
