摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第11页 |
1.2 叠氮化铜的研究现状 | 第11-14页 |
1.3 碳纳米管性能及在含能材料中的应用 | 第14-16页 |
1.4 含能复合薄膜研究现状 | 第16-19页 |
1.5 本文的主要研究工作 | 第19-21页 |
2 多孔氧化铝薄膜的制备与表征 | 第21-34页 |
2.1 多孔氧化铝的形成机理及其应用 | 第21-23页 |
2.1.1 多孔氧化铝形成机理 | 第21-22页 |
2.1.2 多孔氧化铝在纳米材料中的应用 | 第22-23页 |
2.2 实验 | 第23-26页 |
2.2.1 实验药品和仪器 | 第23页 |
2.2.2 实验方法 | 第23-26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-33页 |
2.3.1 I-t曲线 | 第26-27页 |
2.3.2 磁控溅射功率对阳极氧化的影响 | 第27-29页 |
2.3.3 扩孔时间对孔径的影响 | 第29-31页 |
2.3.4 电压对孔径的影响 | 第31-32页 |
2.3.5 Ti过渡层对多孔氧化铝薄膜附着力的影响 | 第32-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
3 定向碳纳米管/氧化铝薄膜材料研究 | 第34-42页 |
3.1 碳纳米管制备方法 | 第34-35页 |
3.2 实验 | 第35-36页 |
3.2.1 实验药品和仪器 | 第35页 |
3.2.2 实验方法 | 第35-36页 |
3.3 结果与讨论 | 第36-40页 |
3.3.1 沉积时间对碳纳米管的影响 | 第36-39页 |
3.3.2 碳纳米管的生长机理分析 | 第39-40页 |
3.4 本章小结 | 第40-42页 |
4 内嵌纳米铜碳纳米管复合薄膜材料研究 | 第42-54页 |
4.1 金属填充碳纳米管的常用方法 | 第42页 |
4.2 实验 | 第42-44页 |
4.2.1 实验药品和仪器 | 第42-43页 |
4.2.2 实验方法 | 第43-44页 |
4.3 铜纳米颗粒电化学沉积条件的影响规律 | 第44-51页 |
4.3.1 电流密度的影响 | 第44-47页 |
4.3.2 添加剂的影响 | 第47-49页 |
4.3.3 沉积时间的影响 | 第49-51页 |
4.4 分析表征 | 第51-52页 |
4.5 本章小结 | 第52-54页 |
5 叠氮化反应实验研究 | 第54-61页 |
5.1 实验 | 第54-56页 |
5.1.1 实验药品和仪器 | 第54页 |
5.1.2 实验方法 | 第54-56页 |
5.2 结果与讨论 | 第56-59页 |
5.2.1 叠氮化反应时间对反应效率的影响 | 第56-59页 |
5.2.2 反应物对叠氮化反应效率的影响 | 第59页 |
5.3 本章小结 | 第59-61页 |
6 内嵌叠氮化铜碳纳米管复合薄膜的性能研究 | 第61-66页 |
6.1 热性能分析 | 第61-62页 |
6.1.1 热分析样品制备 | 第61页 |
6.1.2 热性能结果分析 | 第61-62页 |
6.2 静电感度实验 | 第62-63页 |
6.2.1 静电感度测试原理 | 第62-63页 |
6.2.2 静电感度结果分析 | 第63页 |
6.3 激光点火实验研究 | 第63-65页 |
6.3.1 激光点火原理 | 第63-64页 |
6.3.2 点火过程分析 | 第64-65页 |
6.4 本章小结 | 第65-66页 |
7 总结与展望 | 第66-68页 |
7.1 总结 | 第66-67页 |
7.2 展望 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-76页 |
附录 | 第76页 |