| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8-10页 |
| 1.2 OLED器件的工作原理 | 第10-11页 |
| 1.3 OLED器件的结构 | 第11-13页 |
| 1.4 OLED器件的的基本参数 | 第13-14页 |
| 1.5 OLED器件电极的界面修饰 | 第14-17页 |
| 1.5.1 阳极的界面修饰 | 第14-16页 |
| 1.5.2 阴极的界面修饰 | 第16-17页 |
| 1.6 本文的研究目的及内容安排 | 第17-19页 |
| 第二章 空穴注入层对简化OLED器件性能的影响 | 第19-32页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验设备及测试仪器 | 第20页 |
| 2.2 OLED器件的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 基底（ITO玻璃）的处理 | 第20页 |
| 2.2.2 各功能层的制备 | 第20-21页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第21-31页 |
| 2.3.1 空穴注入层厚度对器件性能的影响 | 第21-24页 |
| 2.3.2 发光层厚度对器件性能的影响 | 第24-26页 |
| 2.3.3 不同空穴注入层对器件性能影响的相关机理探讨 | 第26-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 基于NaOH修饰阴极界面的倒置底发光器件性能的研究 | 第32-40页 |
| 3.1 器件的设计及制备 | 第32-33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-39页 |
| 3.2.1 NaOH厚度对器件性能影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 发光层、载流子传输层厚度对器件性能影响 | 第34-35页 |
| 3.2.3 NaOH薄膜的处理对器件性能影响 | 第35-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 空穴传输层对OLED器件性能的影响 | 第40-49页 |
| 4.1 器件的设计及制备 | 第40-41页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第41-48页 |
| 4.2.1 空穴传输层的材料对器件性能影响 | 第41-44页 |
| 4.2.2 空穴传输层的结构对器件性能影响 | 第44-46页 |
| 4.2.3 空穴传输层的厚度对器件性能影响 | 第46-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 总结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第54-55页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
