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单层二碲化钼畴界缺陷的第一性原理研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-13页
    1.1 引言第9-11页
    1.2 二维TMD中的缺陷类型第11页
    1.3 缺陷对二维TMD材料的影响第11-13页
第二章 理论基础和计算方法第13-19页
    2.1 密度泛函理论第13-16页
        2.1.1 Hohenberg-Kohn定理第14-15页
        2.1.2 Kohn-Sham方程第15-16页
        2.1.3 交换关联泛函第16页
    2.2 布洛赫定理第16-17页
    2.3 赝势方法第17-18页
    2.4 自旋轨道耦合效应(Spin-orbitCoupling,SOC)第18页
    2.5 VASP程序包第18-19页
第三章 单层MoTe_2中点缺陷的电子结构和磁学性质第19-25页
    3.1 研究背景介绍第19页
    3.2 计算模型和方法第19-20页
    3.3 结果与讨论第20-24页
    3.4 小结第24-25页
第四章 单层MoTe_2中畴界缺陷的电子结构和磁学性质第25-37页
    4.1 研究背景介绍第25-26页
    4.2 计算模型和方法第26页
    4.3 结果与讨论第26-36页
        4.3.1 单层MoTe_2中的倾斜型畴界缺陷第28-31页
        4.3.2 单层MoTe_2中的扶手椅型畴界缺陷第31-32页
        4.3.3 单层MoTe_2中的锯齿型畴界缺陷第32-36页
    4.4 小结第36-37页
第五章 单层MoTe_2中超结构的电子结构和磁学性质第37-55页
    5.1 研究背景介绍第37-38页
    5.2 计算模型和方法第38页
    5.3 结果与讨论第38-53页
        5.3.1 单层MoTe_2超结构模型第38-41页
        5.3.2 单层MoTe_2超结构的能带结构第41-45页
        5.3.3 单层MoTe_2超结构的磁性研究第45-53页
    5.4 小结第53-55页
第六章 总结与展望第55-57页
参考文献第57-65页
致谢第65-67页
攻读硕士学位期间的主要工作第67-69页

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