| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 二氧化钒材料介绍 | 第11-12页 |
| 1.3 研究工作的背景与意义 | 第12-14页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第14-20页 |
| 1.4.1 温控二氧化钒相变光学器件研究 | 第14-16页 |
| 1.4.2 电控二氧化钒相变光学器件研究 | 第16-20页 |
| 1.5 本设计的可行性分析 | 第20-22页 |
| 1.6 本论文的主要结论与创新 | 第22页 |
| 1.7 本论文的结构安排 | 第22-23页 |
| 第二章 基于二氧化钒的中红外等离子体天线设计与仿真 | 第23-34页 |
| 2.1 表面等离子体激元原理 | 第23-28页 |
| 2.1.1 传播表面等离子体激元 | 第24-26页 |
| 2.1.2 局域表面等离子体激元 | 第26-28页 |
| 2.2 HFSS中天线模型构建与仿真 | 第28-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 基于二氧化钒中红外等离子体天线的实验制备与性能测试 | 第34-52页 |
| 3.1 器件制备 | 第34-40页 |
| 3.1.1 电子束蒸发制备金属薄膜 | 第34-35页 |
| 3.1.2 PECVD制备二氧化硅薄膜 | 第35-37页 |
| 3.1.3 磁控溅射法制备二氧化钒薄膜 | 第37-38页 |
| 3.1.4 湿法光刻制备叉指金属天线 | 第38-40页 |
| 3.2 温度控制下器件的调制性能研究 | 第40-46页 |
| 3.2.1 温度控制系统 | 第41页 |
| 3.2.2 傅氏转换红外线光谱分析仪(FTIR) | 第41-42页 |
| 3.2.3 FTIR外部光路系统 | 第42-43页 |
| 3.2.4 温控调制性能测试与分析 | 第43-46页 |
| 3.3 电压控制下器件的调制性能研究 | 第46-51页 |
| 3.3.1 电压控制系统 | 第46-47页 |
| 3.3.2 电控调制性能测试与分析 | 第47-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 二氧化钒相变调谐机理分析 | 第52-57页 |
| 4.1 电控测试中器件的温度场模拟 | 第52-55页 |
| 4.1.1 COMSOL中的模型设计 | 第52-53页 |
| 4.1.2 模型仿真分析 | 第53-55页 |
| 4.2 温度调制与电压调制过程对比分析 | 第55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第57-60页 |
| 5.1 全文总结 | 第57-58页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第66页 |