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微电子关键尺寸测试系统的优化分析及图像化显示技术

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 研究工作的背景与意义第11-13页
    1.2 OCD测量分析系统简介第13-15页
    1.3 课题内容简介第15-16页
第二章 非线性优化分析算法第16-25页
    2.1 RCWA简介第16页
    2.2 常见的非线性优化算法第16-24页
        2.2.1 最小二乘法问题第16-17页
        2.2.2 最速下降法第17-18页
        2.2.3 牛顿法第18-19页
        2.2.4 高斯-牛顿法第19-20页
        2.2.5 Levenberg-Marquadt算法第20-24页
            2.2.5.1 置信区间以及阻尼方法第20-22页
            2.2.5.2 Levenberg-Marquadt算法基本原理第22-24页
    2.3 本章小结第24-25页
第三章 OpenGL绘图原理及流程第25-32页
    3.1 OpenGL简介第25页
    3.2 OpenGL主要数据类型及函数第25-28页
        3.2.1 OpenGL的数据类型第25-26页
        3.2.2 OpenGL的函数第26-28页
    3.3 基于OpenGL的绘图实现第28-31页
        3.3.1 OpenGL的绘图流程第28页
        3.3.2 OpenGL的相机模拟显示机制第28-29页
        3.3.3 OpenGL中的坐标变换第29-30页
        3.3.4 OpenGL的几何变换第30页
        3.3.5 OpenGL的投影变换第30-31页
    3.4 本章小结第31-32页
第四章 基于Levenberg-Marquardt算法的优化结果分析第32-52页
    4.1 均匀膜层结构第32-35页
        4.1.1 均匀膜层结构反射率的计算原理第32-33页
        4.1.2 均匀层结构厚度参数的优化实现第33-35页
    4.2 一维周期矩形光栅结构第35-38页
        4.2.1 一维周期矩形光栅反射率的计算原理第35-37页
        4.2.2 一维周期矩形光栅结构各参数的优化实现第37-38页
    4.3 二维周期光栅结构反射率基本原理第38-45页
        4.3.1 光栅结构分类第40-41页
        4.3.2 二维光栅结构各参数的优化实现第41-45页
            4.3.2.1 矩形光栅第41-42页
            4.3.2.2 圆形/椭圆光栅第42-43页
            4.3.2.3 十字结构第43-44页
            4.3.2.4 面心结构第44-45页
    4.4 LM算法的局部优化特性第45-50页
        4.4.1 单参数优化分析第46-48页
        4.4.2 多参数优化分析第48-49页
        4.4.3 使优化分析全局化的方法第49-50页
    4.5 本章小结第50-52页
第五章 基于OpenGL实现光栅结构图像化显示第52-65页
    5.1 绘图基本设置第52-53页
        5.1.1 绘图平台设置第52页
        5.1.2 绘图基调设置第52-53页
    5.2 各结构图像化显示的实现第53-63页
        5.2.1 均匀膜层第53-54页
        5.2.2 一维周期矩形光栅第54-57页
        5.2.3 二维周期光栅结构第57-63页
            5.2.3.1 矩形结构第57-59页
            5.2.3.2 圆形结构第59-60页
            5.2.3.3 椭圆结构第60-61页
            5.2.3.4 十字结构第61-62页
            5.2.3.5 二维圆角结构第62页
            5.2.3.6 二维面心结构第62-63页
    5.3 本章小结第63-65页
第六章 全文总结第65-66页
致谢第66-67页
参考文献第67-69页

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