致谢 | 第5-6页 |
中文摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
目录 | 第10-13页 |
序 | 第13-14页 |
第1章 引言 | 第14-20页 |
1.1 研究背景 | 第14-15页 |
1.2 光伏发展现状 | 第15-18页 |
1.2.1 世界光伏发展现状 | 第15页 |
1.2.2 中国光伏发展现状 | 第15-18页 |
1.3 本文研究内容 | 第18-20页 |
第2章 晶体硅太阳能电池技术 | 第20-32页 |
2.1 晶体硅太阳能电池基本原理 | 第20-21页 |
2.2 晶体硅太阳能电池生产工艺 | 第21-26页 |
2.2.1 硅片腐蚀制绒 | 第21-23页 |
2.2.2 扩散 | 第23-24页 |
2.2.3 后清洗 | 第24页 |
2.2.4 PECVD镀膜 | 第24页 |
2.2.5 丝网印刷 | 第24-26页 |
2.3 高效晶硅电池 | 第26-32页 |
2.3.1 PERL电池 | 第26-27页 |
2.3.2 HIT电池技术 | 第27-28页 |
2.3.3 LFC电池 | 第28-29页 |
2.3.4 OECO电池 | 第29-30页 |
2.3.5 国产高效电池 | 第30-32页 |
第3章 真空热蒸发镀膜技术及真空热蒸发镀膜机的研制 | 第32-50页 |
3.1 真空热蒸发镀膜基本原理 | 第32-38页 |
3.1.1 蒸发镀膜基本物理过程 | 第32-33页 |
3.1.2 蒸发过程中的真空条件 | 第33-34页 |
3.1.3 镀膜过程中的蒸发条件 | 第34-36页 |
3.1.4 蒸气粒子在基片上的沉积 | 第36-37页 |
3.1.5 蒸发源 | 第37-38页 |
3.2 热蒸发镀膜机的搭建 | 第38-50页 |
3.2.1 热蒸发镀膜机设计目标 | 第38页 |
3.2.2 热蒸发镀膜系统组成 | 第38-50页 |
第4章 热蒸发蒸镀铝膜工艺的研究 | 第50-60页 |
4.1 铝膜的制备 | 第50-51页 |
4.1.1 蒸发材料预处理 | 第50页 |
4.1.2 蒸发源预处理 | 第50页 |
4.1.3 硅片预处理 | 第50页 |
4.1.4 铝膜制备 | 第50-51页 |
4.2 薄膜厚度控制研究 | 第51-54页 |
4.3 薄膜均匀性研究 | 第54-56页 |
4.4 热蒸发蒸镀铝膜表面形貌及分析 | 第56-59页 |
4.4.1 铝膜形貌及沉积模式分析 | 第56-57页 |
4.4.2 不同厚度铝膜形貌 | 第57-58页 |
4.4.3 阻蒸电流对膜层形貌影响 | 第58-59页 |
4.5 结论 | 第59-60页 |
第5章 铝背场及铝背场电学性能的研究 | 第60-74页 |
5.1 铝背场 | 第60-64页 |
5.1.1 铝背场形成机制 | 第60-63页 |
5.1.2 铝背场金属化 | 第63-64页 |
5.2 铝背场实验研究 | 第64-73页 |
5.2.1 蒸镀铝膜厚度对电池电学性能的影响 | 第64-67页 |
5.2.2 丝网印刷铝背场金属化改善的实验研究 | 第67-71页 |
5.2.3 不同工艺参数比较分析 | 第71-73页 |
5.3 结论 | 第73-74页 |
第6章 结论与展望 | 第74-76页 |
6.1 本文主要工作及结论 | 第74-75页 |
6.2 展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-82页 |
作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第82-86页 |
学位论文数据集 | 第86页 |