摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
目录 | 第10-14页 |
第一章 文献综述 | 第14-34页 |
·引言 | 第14-16页 |
·制备甲醇的方法 | 第16-17页 |
·甲醇合成反应器 | 第17-21页 |
·固定床甲醇合成反应器 | 第17-19页 |
·浆态床合成甲醇反应器 | 第19-21页 |
·合成甲醇的催化剂 | 第21-26页 |
·锌铬催化剂 | 第21-22页 |
·铜基催化剂 | 第22-24页 |
·钯系催化剂 | 第24页 |
·钼系催化剂 | 第24页 |
·液相合成甲醇催化剂 | 第24-26页 |
·微波技术在催化剂制备中的应用 | 第26-30页 |
·在非负载催化剂和载体制备中的应用 | 第26-29页 |
·在负载型催化剂制备中的应用 | 第29-30页 |
·选题的意义及研究内容 | 第30-34页 |
·选题的意义 | 第30-32页 |
·研究目的及内容 | 第32-34页 |
第二章 实验部分 | 第34-42页 |
·原料及化学试剂 | 第34-35页 |
·实验设备 | 第35-36页 |
·浆态床反应装置 | 第36-37页 |
·催化剂的制备 | 第37-38页 |
·催化剂的活性评价 | 第38-39页 |
·计算方法与分析 | 第39-40页 |
·催化剂表征 | 第40-42页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第40页 |
·FT-IR红外光谱 | 第40-41页 |
·热重分析(TG-DTG) | 第41页 |
·粒度测试 | 第41页 |
·透射电镜(TEM) | 第41页 |
·程序升温还原(H_2-TPR) | 第41页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第41-42页 |
第三章 实验结果与讨论 | 第42-90页 |
·微波辐射沉淀温度对催化剂性能的影响 | 第43-52页 |
·催化剂的活性及稳定性测试 | 第43-44页 |
·前驱体的XRD表征 | 第44-45页 |
·催化剂前驱体的FT-IR表征 | 第45-46页 |
·催化剂前驱体的DTG表征 | 第46-47页 |
·焙烧后催化剂的XRD表征分析 | 第47-48页 |
·焙烧后催化剂的H_2-TPR谱图 | 第48-49页 |
·焙烧后催化剂的XPS表征 | 第49-50页 |
·小结 | 第50-52页 |
·微波辐射老化温度对催化剂性能的影响 | 第52-64页 |
·催化剂活性及稳定性测试 | 第52-53页 |
·前驱体XRD表征 | 第53-54页 |
·前驱体FTIR表征 | 第54-56页 |
·前驱体DTG表征 | 第56-57页 |
·焙烧后催化剂的粒度测试和TEM照片 | 第57-59页 |
·催化剂的TPR表征 | 第59页 |
·催化剂的XRD表征 | 第59-60页 |
·催化剂的XPS表征 | 第60-62页 |
·小结 | 第62-64页 |
·微波辐射老化时间对催化剂性能的影响 | 第64-76页 |
·催化剂活性及稳定性测试 | 第64-65页 |
·前驱体XRD表征 | 第65-66页 |
·前驱体FT-IR表征 | 第66-68页 |
·前驱体DTG表征 | 第68-70页 |
·催化剂的H_2-TPR表征 | 第70-71页 |
·催化剂的XRD表征 | 第71-73页 |
·催化剂的XPS表征 | 第73-74页 |
·微波辐射对前驱体结果影响的机理分析 | 第74-75页 |
·结论 | 第75-76页 |
·微波辐射沉淀和老化共同对催化剂性能的影响 | 第76-84页 |
·催化剂的活性及稳定性测试 | 第76页 |
·催化剂前驱体的XRD表征 | 第76-77页 |
·催化剂前驱体的FT-IR | 第77-78页 |
·催化剂前驱体的DTG数据 | 第78-80页 |
·催化剂的H_2-TPR表征 | 第80-81页 |
·催化剂的XRD表征 | 第81-82页 |
·催化剂的XPS表征 | 第82-83页 |
·小结 | 第83-84页 |
·溶剂极性对微波辐射制备CuOZnO/Al_2O_3催化剂性能的影响 | 第84-90页 |
·催化剂的活性及稳定性测试 | 第84-85页 |
·催化剂前驱体的XRD表征 | 第85-86页 |
·催化剂前驱体的FT-IR表征 | 第86-87页 |
·催化剂前驱体的DTG表征 | 第87-88页 |
·催化剂的XRD表征 | 第88页 |
·催化剂的H_2-TPR表征 | 第88-89页 |
·小结 | 第89-90页 |
第四章 总结和建议 | 第90-92页 |
·结论 | 第90-91页 |
·建议 | 第91-92页 |
参考文献 | 第92-102页 |
致谢 | 第102-103页 |
发表论文 | 第103页 |