摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 选题背景 | 第10-11页 |
1.2 DMC研究现状 | 第11-15页 |
1.2.1 DMC 的性质 | 第11页 |
1.2.2 DMC 的应用 | 第11-13页 |
1.2.3 DMC合成工艺 | 第13-15页 |
1.2.4 DMC生产消费现状 | 第15页 |
1.3 甲醇气相氧化類基化合成DMC催化剂及其反应机理研究 | 第15-21页 |
1.3.1 含氯催化剂 | 第16-18页 |
1.3.2 无氯催化剂 | 第18-21页 |
1.4 选题思路及研究内容 | 第21-22页 |
参考文献 | 第22-26页 |
第二章 理论计算方法 | 第26-40页 |
2.1 量子化学发展 | 第26-27页 |
2.2 DFT方法理论简介 | 第27-33页 |
2.2.1 Thomas-Fermi模型 | 第28-29页 |
2.2.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第29-31页 |
2.2.3 Kohn-Sham方程 | 第31-32页 |
2.2.4 局域密度近似(LDA) | 第32-33页 |
2.2.5 广义梯度近似(GGA) | 第33页 |
2.3 密度泛函常用软件 | 第33-34页 |
2.4 模型的优化以及过渡态(TS)的搜索 | 第34-37页 |
2.4.1 模型的优化 | 第34页 |
2.4.2 过渡态求解 | 第34-37页 |
参考文献 | 第37-40页 |
第三章 Cu~0/AC表面甲醇氧化羰基化合成DMC反应机理研究 | 第40-58页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 模型和计算方法 | 第40-42页 |
3.2.1 活性炭结构模型 | 第40-41页 |
3.2.2 Cu~0结构模型 | 第41-42页 |
3.2.3 计算方法 | 第42页 |
3.3 Cu~0在活性炭表面的吸附 | 第42-44页 |
3.4 反应物和产物在Cu~0/AC表面上的吸附 | 第44-48页 |
3.5 反应机理 | 第48-52页 |
3.5.1 甲醇的氧化 | 第48-49页 |
3.5.2 DMC的合成机理 | 第49-52页 |
3.5.3 DMC释放进入气相 | 第52页 |
3.5.4 结果总结 | 第52页 |
3.6 本章小结 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
第四章 Rh助剂对Cu~0/AC表面催化合成DMC影响的机理研究 | 第58-70页 |
4.1 引言 | 第58-59页 |
4.2 表面模型和计算方法 | 第59-60页 |
4.2.1 表面模型 | 第59-60页 |
4.2.2 计算方法 | 第60页 |
4.3 结果讨论 | 第60-66页 |
4.3.1 反应物和产物在Cu-Rh/AC表面和Cu~0/AC表面吸附的比较 | 第60-62页 |
4.3.2 反应机理 | 第62-66页 |
4.4 本章小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第五章 总结和建议 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
在读期间发表论文及其他成果目录 | 第74页 |