摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 等离子电解氧化技术 | 第10-15页 |
1.1.1 等离子电解氧化技术的发展史 | 第10页 |
1.1.2 等离子电解氧化的基本原理及其主要特点 | 第10-12页 |
1.1.3 等离子电解氧化的影响因素 | 第12-14页 |
1.1.4 等离子电解氧化的放电模式 | 第14-15页 |
1.2 锆合金的等离子电解氧化研究 | 第15-19页 |
1.2.1 锆及锆合金 | 第15页 |
1.2.2 锆合金的应用 | 第15-16页 |
1.2.3 锆合金的等离子电解氧化研究现状 | 第16-19页 |
1.3 论文的研究意义和研究目的和内容 | 第19-21页 |
1.3.1 本论文的研究意义 | 第19页 |
1.3.2 本论文的研究目的和内容 | 第19-21页 |
第2章 实验材料与研究方法 | 第21-24页 |
2.1 实验材料 | 第21页 |
2.2 等离子电解氧化膜的制备 | 第21-22页 |
2.2.1 试样的预处理 | 第21页 |
2.2.2 电解液的选择和配置 | 第21-22页 |
2.2.3 实验装置及电源参数设置 | 第22页 |
2.3 性能测试方法 | 第22-24页 |
2.3.1 膜层厚度与标准差测试 | 第22页 |
2.3.2 表面火花放电情况记录 | 第22页 |
2.3.3 膜层表面耐腐蚀性能测试 | 第22-23页 |
2.3.4 电流波形的测试 | 第23页 |
2.3.5 扫描电子显微镜和能谱仪测试 | 第23页 |
2.3.6 膜层的耐磨性能测试以及磨痕深度检测 | 第23页 |
2.3.7 膜层的相的成分测试 | 第23-24页 |
第3章 铝酸盐电解液体系中的 PEO 膜层制备及其膜层结构与相组成 | 第24-44页 |
3.1 时间与电压变化及火花放电研究 | 第24-27页 |
3.2 膜层的生长曲线 | 第27-28页 |
3.3 膜中相的组成成分 | 第28-30页 |
3.4 膜层的微观形貌 | 第30-43页 |
3.4.1 在低浓度铝酸盐电解液中反应 5min 的微观形貌 | 第30-32页 |
3.4.2 在低浓度铝酸盐电解液中反应 10min 的微观形貌 | 第32-33页 |
3.4.3 在低浓度铝酸盐电解液中反应 30min 形成的膜层的微观形貌 | 第33-36页 |
3.4.4 在磷酸盐电解液中反应 20min 形成的膜层的微观结构 | 第36-37页 |
3.4.5 在高浓度铝酸盐电解液中反应 2min 得到的膜层的微观结构 | 第37-40页 |
3.4.6 在高浓度铝酸盐电解液下反应 10min 得到的膜层的微观结构 | 第40-41页 |
3.4.7 在高浓度铝酸盐电解液下反应不同时间的膜层比较 | 第41-43页 |
3.5 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 在不同浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的耐磨性与耐蚀性研究 | 第44-56页 |
4.1 在低浓度铝酸盐电解液下形成的膜层的干摩擦行为 | 第44-48页 |
4.2 在高浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的摩擦性能 | 第48-51页 |
4.3 薄膜的干摩擦行为 | 第51-54页 |
4.4 在不用浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的耐腐蚀性 | 第54-55页 |
4.5 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 在硅酸盐电解液体系中的等离子电解氧化膜的研究 | 第56-64页 |
5.1 不同硅酸盐电解液浓度下的时间与膜层生长厚度 | 第56-57页 |
5.2 不同硅酸盐电解液浓度下反应得到的膜层的相结构 | 第57-58页 |
5.3 在不同硅酸盐电解液中反应得到的膜的形貌研究 | 第58-61页 |
5.3.1 在 16g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层的微观结构 | 第58-59页 |
5.3.2 在 32g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层微观结构 | 第59页 |
5.3.3 在 48g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层微观结构 | 第59-61页 |
5.4 在两种不同硅酸盐电解液中反应 30min 得到的膜的耐磨性 | 第61-62页 |
5.5 在不同硅酸盐电解液浓度下反应得到的膜的耐腐蚀性 | 第62-63页 |
5.6 本章小结 | 第63-64页 |
结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
附录 A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录 | 第72页 |