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Zr合金等离子电解氧化膜微观结构和性能的研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-21页
    1.1 等离子电解氧化技术第10-15页
        1.1.1 等离子电解氧化技术的发展史第10页
        1.1.2 等离子电解氧化的基本原理及其主要特点第10-12页
        1.1.3 等离子电解氧化的影响因素第12-14页
        1.1.4 等离子电解氧化的放电模式第14-15页
    1.2 锆合金的等离子电解氧化研究第15-19页
        1.2.1 锆及锆合金第15页
        1.2.2 锆合金的应用第15-16页
        1.2.3 锆合金的等离子电解氧化研究现状第16-19页
    1.3 论文的研究意义和研究目的和内容第19-21页
        1.3.1 本论文的研究意义第19页
        1.3.2 本论文的研究目的和内容第19-21页
第2章 实验材料与研究方法第21-24页
    2.1 实验材料第21页
    2.2 等离子电解氧化膜的制备第21-22页
        2.2.1 试样的预处理第21页
        2.2.2 电解液的选择和配置第21-22页
        2.2.3 实验装置及电源参数设置第22页
    2.3 性能测试方法第22-24页
        2.3.1 膜层厚度与标准差测试第22页
        2.3.2 表面火花放电情况记录第22页
        2.3.3 膜层表面耐腐蚀性能测试第22-23页
        2.3.4 电流波形的测试第23页
        2.3.5 扫描电子显微镜和能谱仪测试第23页
        2.3.6 膜层的耐磨性能测试以及磨痕深度检测第23页
        2.3.7 膜层的相的成分测试第23-24页
第3章 铝酸盐电解液体系中的 PEO 膜层制备及其膜层结构与相组成第24-44页
    3.1 时间与电压变化及火花放电研究第24-27页
    3.2 膜层的生长曲线第27-28页
    3.3 膜中相的组成成分第28-30页
    3.4 膜层的微观形貌第30-43页
        3.4.1 在低浓度铝酸盐电解液中反应 5min 的微观形貌第30-32页
        3.4.2 在低浓度铝酸盐电解液中反应 10min 的微观形貌第32-33页
        3.4.3 在低浓度铝酸盐电解液中反应 30min 形成的膜层的微观形貌第33-36页
        3.4.4 在磷酸盐电解液中反应 20min 形成的膜层的微观结构第36-37页
        3.4.5 在高浓度铝酸盐电解液中反应 2min 得到的膜层的微观结构第37-40页
        3.4.6 在高浓度铝酸盐电解液下反应 10min 得到的膜层的微观结构第40-41页
        3.4.7 在高浓度铝酸盐电解液下反应不同时间的膜层比较第41-43页
    3.5 本章小结第43-44页
第4章 在不同浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的耐磨性与耐蚀性研究第44-56页
    4.1 在低浓度铝酸盐电解液下形成的膜层的干摩擦行为第44-48页
    4.2 在高浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的摩擦性能第48-51页
    4.3 薄膜的干摩擦行为第51-54页
    4.4 在不用浓度铝酸盐电解液中形成的膜层的耐腐蚀性第54-55页
    4.5 本章小结第55-56页
第5章 在硅酸盐电解液体系中的等离子电解氧化膜的研究第56-64页
    5.1 不同硅酸盐电解液浓度下的时间与膜层生长厚度第56-57页
    5.2 不同硅酸盐电解液浓度下反应得到的膜层的相结构第57-58页
    5.3 在不同硅酸盐电解液中反应得到的膜的形貌研究第58-61页
        5.3.1 在 16g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层的微观结构第58-59页
        5.3.2 在 32g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层微观结构第59页
        5.3.3 在 48g/L NaSiO3+1g/L KOH 电解液中形成的膜层微观结构第59-61页
    5.4 在两种不同硅酸盐电解液中反应 30min 得到的膜的耐磨性第61-62页
    5.5 在不同硅酸盐电解液浓度下反应得到的膜的耐腐蚀性第62-63页
    5.6 本章小结第63-64页
结论第64-65页
参考文献第65-71页
致谢第71-72页
附录 A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录第72页

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