| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-23页 |
| 1.1 分子印迹技术的发展概况 | 第9-14页 |
| 1.1.1 分子印迹技术定义 | 第9-10页 |
| 1.1.2 分子印迹原理 | 第10-12页 |
| 1.1.3 分子印迹聚合物的制备工艺 | 第12-13页 |
| 1.1.4 现存问题及发展趋势 | 第13-14页 |
| 1.2 金属离子印迹技术 | 第14-18页 |
| 1.2.1 金属离子印迹技术的基本原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 模板离子与功能单体的选择 | 第16页 |
| 1.2.3 制备方法 | 第16-17页 |
| 1.2.3.1 本体聚合 | 第16页 |
| 1.2.3.2 表面印迹方法 | 第16-17页 |
| 1.2.3.3 乳液聚合和悬浮聚合 | 第17页 |
| 1.2.3.4 溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| 1.2.4 金属离子印迹技术的应用发展 | 第17-18页 |
| 1.3 表面分子印迹技术 | 第18-20页 |
| 1.3.1 牺牲载体法 | 第18页 |
| 1.3.2 聚合加膜法 | 第18-19页 |
| 1.3.3 化学接枝法 | 第19-20页 |
| 1.4 稀土离子印迹物的研究 | 第20-21页 |
| 1.4.1 稀土离子印迹聚合物的分析、检测方法 | 第20-21页 |
| 1.5 研究目的、意义、内容及创新性 | 第21-23页 |
| 1.5.1 目的 | 第21页 |
| 1.5.2 意义 | 第21页 |
| 1.5.3 内容 | 第21页 |
| 1.5.4 创新 | 第21-23页 |
| 第二章 Ce~(3+)表面离子印迹物的设计、合成与表征 | 第23-46页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-31页 |
| 2.2.1 仪器与试剂 | 第23-25页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第25-31页 |
| 2.2.2.1 Ce~(3+)紫外可见分光光度分析法 | 第25页 |
| 2.2.2.2 Ce~(3+)表面印迹物的设计 | 第25-28页 |
| 2.2.2.3 Ce~(3+)表面印迹聚物的合成 | 第28-30页 |
| 2.2.2.4 Ce~(3+)表面印迹物的表征 | 第30-31页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第31-44页 |
| 2.3.1 紫外分析及测定方法 | 第31-33页 |
| 2.3.1.1 偶氮胂（Ⅲ）紫外扫描与 Ce~(3+)-偶氮胂（Ⅲ）的紫外扫描 | 第31-32页 |
| 2.3.1.2 实验测定标准曲线的建立 | 第32-33页 |
| 2.3.2 Ce~(3+)印迹物设计实验结果 | 第33-36页 |
| 2.3.2.1 单体与 Ce~(3+)溶液电导率滴定结果 | 第33-35页 |
| 2.3.2.2 PEI 与 Ce~(3+)配位络合的紫外测定结果 | 第35-36页 |
| 2.3.2.3 交联剂设计结果 | 第36页 |
| 2.3.3 工艺优化实验结果 | 第36-39页 |
| 2.3.3.1 不同 CP 使用量合成的 PEI-SiO_2的接枝度结果 | 第36-37页 |
| 2.3.3.2 不同分子量的 PEI 分子合成的 PEI-SiO_2的接枝度结果 | 第37-38页 |
| 2.3.3.3 不同 PEI 使用量合成的 PEI-SiO_2的接枝度结果 | 第38-39页 |
| 2.3.3.4 不同环氧基交联剂合成的 Ce~(3+)IIP-PEI-SiO_2的吸附效果 | 第39页 |
| 2.3.4 表征结果 | 第39-44页 |
| 2.3.4.1 红外分析（IR） | 第39-41页 |
| 2.3.4.2 电镜扫描分析（SEM） | 第41-42页 |
| 2.3.4.3 X-Ray 衍射分析 | 第42-44页 |
| 2.3.4.4 热重分析 | 第44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第三章 Ce~(3+)表面印迹物对 Ce~(3+)吸附分离性质研究 | 第46-54页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 实验部分 | 第46-48页 |
| 3.2.1 仪器与药品 | 第46-47页 |
| 3.2.2 分析测定 | 第47-48页 |
| 3.2.2.1 ICP 分析测定方法 | 第47页 |
| 3.2.2.2 吸附量计算 | 第47-48页 |
| 3.2.3 静态吸附实验 | 第48页 |
| 3.2.3.1 pH 值对 Ce~(3+)IIP-PEI-SiO_2吸附 Ce~(3+)的影响实验 | 第48页 |
| 3.2.3.2 不同温度下 Ce~(3+)IIP-PEI-SiO_2的静态吸附动力学曲线 | 第48页 |
| 3.2.3.3 Ce~(3+)IIP-PEI-SiO_2对 Ce~(3+)的吸附等温线 | 第48页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第48-53页 |
| 3.3.1 ICP 分析测定法 | 第48-49页 |
| 3.3.2 静态吸附试验 | 第49-51页 |
| 3.3.2.1 pH 值对吸附的影响 | 第49-50页 |
| 3.3.2.2 不同温度下静态吸附动力学曲线 | 第50-51页 |
| 3.3.2.3 Ce~(3+)印迹物吸附过程的等温吸附线 | 第51页 |
| 3.3.3 等温吸附的拟合方程 | 第51-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 壳聚糖材料印迹膜的研究 | 第54-69页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 实验部分 | 第55-58页 |
| 4.2.1 仪器与试剂 | 第55-56页 |
| 4.2.2 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物的合成 | 第56-57页 |
| 4.2.2.1 合成方法 | 第56页 |
| 4.2.2.2 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物合成条件删选 | 第56页 |
| 4.2.2.3 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物的红外表征分析 | 第56页 |
| 4.2.2.4 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物的吸附效果研究 | 第56-57页 |
| 4.2.3 壳聚糖-Ce~(3+)印迹膜的研究 | 第57-58页 |
| 4.2.3.1 壳聚糖-Ce~(3+)印迹膜的合成与初步删选 | 第57-58页 |
| 4.2.3.2 壳聚糖-Ce~(3+)印迹膜的表征分析 | 第58页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第58-68页 |
| 4.3.1 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物合成条件删选结果 | 第58-60页 |
| 4.3.1.1 油相溶剂的选择 | 第58页 |
| 4.3.1.2 水相壳聚糖的用量 | 第58-59页 |
| 4.3.1.3 水相超纯水的用量 | 第59页 |
| 4.3.1.4 油相的用量 | 第59-60页 |
| 4.3.2 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物的红外谱图 | 第60-61页 |
| 4.3.3 Ce~(3+)—壳聚糖印迹聚合物的吸附特性 | 第61-62页 |
| 4.3.4 壳聚糖-Ce~(3+)印迹膜的红外图谱 | 第62-64页 |
| 4.3.5 壳聚糖-Ce~(3+)印迹膜扫描电镜分析 | 第64-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 总结 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 在读期间公开发表论文及科研情况 | 第76页 |
