提高阵列波导光栅插入损耗均匀性研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 WDM技术概述 | 第11-12页 |
| 1.1.1 WDM技术介绍 | 第11-12页 |
| 1.1.2 WDM技术原理 | 第12页 |
| 1.2 WDM器件及其性能比较 | 第12-19页 |
| 1.2.1 分立型波分复用器件 | 第13-15页 |
| 1.2.2 集成型波分复用器件 | 第15-18页 |
| 1.2.3 波分复用器件的比较 | 第18-19页 |
| 1.3 WDM技术优势和未来的发展趋势 | 第19-21页 |
| 1.3.1 WDM技术优势 | 第19-20页 |
| 1.3.2 WDM技术发展趋势 | 第20-21页 |
| 1.4 本文的创新点和章节安排 | 第21-22页 |
| 2 阵列波导光栅(AWG) | 第22-40页 |
| 2.1 AWG几何结构 | 第22-23页 |
| 2.2 AWG工作原理 | 第23-25页 |
| 2.2.1 光栅方程 | 第23-24页 |
| 2.2.2 色散特性 | 第24页 |
| 2.2.3 自由光谱范围 | 第24-25页 |
| 2.3 AWG性能指标 | 第25-26页 |
| 2.3.1 串扰 | 第25页 |
| 2.3.2 频谱的LdB带宽 | 第25页 |
| 2.3.3 插入损耗及均匀性 | 第25-26页 |
| 2.4 基于高斯光束的AWG器件模拟 | 第26-28页 |
| 2.4.1 高斯光束 | 第26-27页 |
| 2.4.2 AWG器件模拟 | 第27-28页 |
| 2.5 AWG应用 | 第28-34页 |
| 2.5.1 波分复用\解复用器件 | 第28-29页 |
| 2.5.2 多信道光接收机 | 第29-30页 |
| 2.5.3 WDM-PON(波分复用型光网络) | 第30-31页 |
| 2.5.4 AWG-OADM | 第31-32页 |
| 2.5.5 AWG滤波器 | 第32-33页 |
| 2.5.6 AWG路由器 | 第33-34页 |
| 2.6 国内外AWG研究现状和进展 | 第34-40页 |
| 2.6.1 均匀损耗周期频率(ULCF)型AWG | 第34页 |
| 2.6.2 温度不敏感技术 | 第34-35页 |
| 2.6.3 消除偏振相关性 | 第35-36页 |
| 2.6.4 低插入损耗 | 第36-37页 |
| 2.6.5 多通道数AWG研制 | 第37页 |
| 2.6.6 频谱平坦化研究 | 第37-38页 |
| 2.6.7 中心波长补偿研究 | 第38页 |
| 2.6.8 低串扰技术研究 | 第38页 |
| 2.6.9 纳米线波导AWG | 第38-40页 |
| 3 提高AWG插入损耗均匀性的设计 | 第40-53页 |
| 3.1 提高AWG插入损耗均匀性的研究进展 | 第40-46页 |
| 3.2 本设计的基本原理 | 第46页 |
| 3.3 具体结构设计 | 第46-48页 |
| 3.4 设计实例 | 第48-53页 |
| 4 AWG复用器的实验制作 | 第53-66页 |
| 4.1 掩膜设计 | 第53-54页 |
| 4.2 实验制作方案 | 第54-55页 |
| 4.3 AWG器件制作的关键工艺 | 第55-61页 |
| 4.3.1 PECVD生长二氧化硅薄膜技术 | 第55-57页 |
| 4.3.2 金属溅射 | 第57页 |
| 4.3.3 光刻工艺 | 第57-60页 |
| 4.3.4 ICP刻蚀 | 第60-61页 |
| 4.4 器件的性能测试和测试结果的分析 | 第61-66页 |
| 4.4.1 测试平台搭建 | 第61-63页 |
| 4.4.2 测试结果 | 第63-66页 |
| 5 总结和展望 | 第66-67页 |
| 5.1 本文总结 | 第66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录 | 第72页 |
| 作者简介 | 第72页 |
| 成果附录 | 第72页 |
