| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-11页 |
| ·研究背景 | 第7-8页 |
| ·薄膜材料 | 第8-10页 |
| ·薄膜材料的分类 | 第8页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第8-9页 |
| ·薄膜的表征技术 | 第9-10页 |
| ·研究课题的意义 | 第10-11页 |
| 第二章 理论基础 | 第11-16页 |
| ·薄膜表征参数简介 | 第11页 |
| ·菲涅耳公式 | 第11-13页 |
| ·常用理论模型 | 第13-14页 |
| ·Cauchy模型 | 第13页 |
| ·洛伦兹谐振子模型 | 第13-14页 |
| ·Forouhi-Bloomer方程 | 第14页 |
| ·三种模型的分析与比较 | 第14页 |
| ·F-B方程应用于薄膜光学测量的实验思路 | 第14-16页 |
| 第三章 实验仪器及调试测量 | 第16-24页 |
| ·检测与分析仪器 | 第16-17页 |
| ·测试软件界面 | 第17-19页 |
| ·实验仪器调试测量 | 第19-21页 |
| ·硅片的测定 | 第19-20页 |
| ·玻璃基板的测定 | 第20-21页 |
| ·对比实验用检测仪器的介绍 | 第21-24页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第21-22页 |
| ·扫描探针显微镜(SPM) | 第22页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22-24页 |
| 第四章 半导体薄膜光学参数的测量 | 第24-35页 |
| ·样品介绍 | 第24-25页 |
| ·样品测试分析 | 第25-31页 |
| ·样品n,k图谱实验结果 | 第31-32页 |
| ·椭圆偏振实验结果验证 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第五章 介质薄膜光学参数测量 | 第35-43页 |
| ·介质薄膜n、k图谱结果 | 第35-37页 |
| ·椭圆偏振结果验证 | 第37-39页 |
| ·介电常数的计算 | 第39-41页 |
| ·分析与讨论 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第六章 特殊薄膜光学参数测量 | 第43-47页 |
| ·钢板TiO2膜厚的测定 | 第43-45页 |
| ·ITO膜厚的测定 | 第45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第七章 一维规则周期性结构的沟槽深度和台阶宽度测量 | 第47-57页 |
| ·一维规则周期性结构的沟槽的RCWA分析 | 第47-50页 |
| ·硅片表面沟槽深度测量 | 第50-52页 |
| ·一维规则周期性沟槽表面形貌测量 | 第52页 |
| ·一维规则周期性沟槽剖面形貌测量 | 第52-53页 |
| ·一维规则周期性结构分析在光刻环节的应用 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第八章 总结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |