| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 LaB_6的结构、性质及应用 | 第13-16页 |
| 1.1.1 LaB_6的晶体和电子结构 | 第13-15页 |
| 1.1.2 LaB_6的物理和化学性质及应用 | 第15-16页 |
| 1.2 LaB_6的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.2.1 LaB_6单晶材料的研究 | 第16页 |
| 1.2.2 LaB_6多晶体材料的研究 | 第16页 |
| 1.2.3 LaB_6粉末的研究 | 第16-17页 |
| 1.2.4 LaB_6薄膜的研究 | 第17-18页 |
| 1.3 LaB_6薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4 LaB_6薄膜的生长机制 | 第20-22页 |
| 1.4.1 LaB_6薄膜的生长模型 | 第20-21页 |
| 1.4.2 影响LaB_6薄膜生长的主要因素 | 第21-22页 |
| 1.5 离子束表面处理 | 第22-23页 |
| 1.6 选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方案及研究方法 | 第25-35页 |
| 2.1 技术路线及研究方案 | 第25页 |
| 2.2 实验用原材料及制备过程 | 第25-27页 |
| 2.2.1 靶材烧结原材料 | 第25-26页 |
| 2.2.2 基底材料 | 第26-27页 |
| 2.3 靶材的制备 | 第27-28页 |
| 2.4 基底的离子束处理 | 第28-29页 |
| 2.5 LaB_6非连续薄膜的制备 | 第29-30页 |
| 2.6 LaB_6非连续薄膜热处理 | 第30页 |
| 2.7 LaB_6非连续薄膜形貌成分及性能特征 | 第30-35页 |
| 2.7.1 薄膜结构表征 | 第30-31页 |
| 2.7.2 薄膜表面形貌表征 | 第31-32页 |
| 2.7.3 薄膜成分分析 | 第32-33页 |
| 2.7.4 薄膜光学性能分析 | 第33-35页 |
| 第三章 磁控溅射制备LaB_6非连续薄膜的工艺研究 | 第35-45页 |
| 3.1 离子束处理时间对石英玻璃基底的影响 | 第35-39页 |
| 3.2 磁控溅射时间对LaB_6非连续薄膜的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 热处理对LaB_6非连续薄膜的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 LaB_6非连续薄膜的表征及生长方式研究 | 第45-61页 |
| 4.1 LaB_6非连续薄膜的生长模式分析 | 第45-49页 |
| 4.2 LaB_6非连续薄膜的成分和结晶度分析 | 第49-53页 |
| 4.3 薄膜的表面粗糙度和高度分析 | 第53-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-61页 |
| 第五章 直流磁控溅射石英玻璃基LaB_6非连续薄膜的光学性能 | 第61-73页 |
| 5.1 离子束处理对LaB_6非连续薄膜光学性能的影响 | 第61-63页 |
| 5.2 磁控溅射时间对LaB_6非连续薄膜光学性能的影响 | 第63-65页 |
| 5.3 热处理对LaB_6非连续薄膜光学性能的影响 | 第65-67页 |
| 5.4 LaB_6非连续薄膜透光隔热性能计算 | 第67-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第83页 |
