首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--半导体集成电路(固体电路)论文

基于65nm体硅CMOS工艺的单粒子瞬态效应电路加固技术研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 课题研究背景与意义第9-10页
    1.2 课题的国内外研究现状第10-12页
    1.3 课题研究内容第12-13页
    1.4 论文结构第13-14页
第二章 单粒子瞬态研究基础第14-28页
    2.1 辐射环境及辐射效应第14-18页
        2.1.1 辐射环境第14-16页
        2.1.2 辐射效应第16-18页
    2.2 单粒子瞬态效应理论基础第18-22页
        2.2.1 单粒子瞬态效应第18-19页
        2.2.2 电荷的沉积与收集第19-22页
    2.3 单粒子瞬态脉冲传播特性分析第22-24页
        2.3.1 掩蔽效应第22-23页
        2.3.2 展宽效应第23页
        2.3.3 衰减效应第23-24页
    2.4 单粒子瞬态效应的分析方法第24-27页
        2.4.1 基于模型分析的软错误率算法第25页
        2.4.2 基于仿真软件的模拟第25-26页
        2.4.3 硬件模拟第26-27页
    2.5 本章小结第27-28页
第三章 单粒子瞬态物理建模第28-39页
    3.1 Sentaurus TCAD及混合仿真介绍第28-29页
    3.2 三维器件的单管建模及工艺校准第29-31页
    3.3 粒子入射模拟第31-38页
        3.3.1 模拟原理第31-34页
        3.3.2 模拟配置第34-36页
        3.3.3 模拟结果分析第36-38页
    3.4 本章小结第38-39页
第四章 基于65 nm新型反相器抗SET加固方法研究第39-57页
    4.1 相关研究现状分析第39-40页
    4.2 新型反相器抗SET加固方法第40-46页
        4.2.1 反相器加固电路结构第41-42页
        4.2.2 内部器件模型及校准第42-44页
        4.2.3 加固电路功能验证第44-46页
    4.3 新型反相器抗SET加固分析第46-54页
        4.3.1 基于面积等效的加固分析第46-50页
        4.3.2 基于驱动等效的加固分析第50-54页
    4.4 基于P~+深阱掺杂浓度的设计优化第54-56页
    4.5 本章小结第56-57页
第五章 总结和展望第57-59页
    5.1 研究工作总结第57-58页
    5.2 研究工作展望第58-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-64页
攻读学位期间取得的学术成果第64页

论文共64页,点击 下载论文
上一篇:多纵模激光器自混合传感系统及反馈因子测量新方法研究
下一篇:短波通信中的迭代均衡技术研究