| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1．1 微弧氧化技术 | 第11-18页 |
| 1．1．1 微弧氧化技术的发展历史 | 第11-12页 |
| 1．1．2 微弧氧化膜层制备方法及结构性能 | 第12-16页 |
| 1．1．3 微弧氧化技术的机理研究 | 第16-17页 |
| 1．1．4 微弧氧化技术的应用 | 第17-18页 |
| 1．2 高压阳极氧化沉积技术 | 第18-21页 |
| 1．3 铝及其合金表面电化学强化处理课题的选择 | 第21-22页 |
| 第二章 铝在中性体系中高压阳极氧化沉积（HVAD）的表面强化处理工艺研究 | 第22-33页 |
| 2．1 实验方法及条件 | 第22-23页 |
| 2．2 膜层性能的检测 | 第23-24页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第24-31页 |
| 2．3．1 铝在中性混合体系中的阳极氧化曲线 | 第24-25页 |
| 2．3．2 电解液组成及浓度对膜层性能的影响 | 第25-28页 |
| 2．3．3 电解工艺参数对膜层性能的影响 | 第28-30页 |
| 2．3．4 基体合金元素对膜性能的影响 | 第30-31页 |
| 2．3．5 与酸性体系制备HVA灰色和黑色膜层的比较 | 第31页 |
| 2．4 结论 | 第31-33页 |
| 第三章 HVAD膜层成分、形貌及结构分析 | 第33-41页 |
| 3．1 实验方法及条件 | 第33页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第33-39页 |
| 3．2．1 膜层组成元素分析 | 第33-36页 |
| 3．2．2 膜层XRD相分析 | 第36-37页 |
| 3．2．3 膜层表面形貌分析 | 第37-38页 |
| 3．2．4 膜层横截面SEM分析 | 第38页 |
| 3．2．5 与酸性体系制备的HVA膜层的比较 | 第38-39页 |
| 3．3 结论 | 第39-41页 |
| 第四章 HVAD膜层成膜机理研究 | 第41-49页 |
| 4．1 实验方法及条件 | 第41页 |
| 4．2 结果与讨论 | 第41-48页 |
| 4．2．1 铝在七个不同体系中的稳态伏安特性曲线分析 | 第41-42页 |
| 4．2．2 铝在七个不同体系中的暂态阳极氧化曲线分析 | 第42-45页 |
| 4．2．3 铝在促进剂+络合成膜剂+Na_2WO_4体系中的膜层微观形貌及形成过程分析 | 第45-47页 |
| 4．2．4 HVAD膜层形成机理初探 | 第47-48页 |
| 4．3 结论 | 第48-49页 |
| 第五章 铝合金在水玻璃混合体系中的微弧氧化工艺研究 | 第49-60页 |
| 5．1 实验方法及条件 | 第49-50页 |
| 5．2 结果与讨论 | 第50-57页 |
| 5．2．1 ZL109合金在水玻璃混合体系中的微弧氧化曲线 | 第50-51页 |
| 5．2．2 电解液组成及浓度对膜层性能的影响 | 第51-55页 |
| 5．2．3 电解工艺参数对膜层性能的影响 | 第55-56页 |
| 5．2．4 基体合金元素对膜层性能的影响 | 第56-57页 |
| 5．3 其它微弧氧化体系的研究 | 第57-59页 |
| 5．3．1 LY12合金在铝酸盐混合体系中的微弧氧化 | 第57-58页 |
| 5．3．2 LF4合金在磷酸盐混合体系中的微弧氧化 | 第58-59页 |
| 5．4 结论 | 第59-60页 |
| 第六章 微弧氧化（MAO）膜层分析和成膜过程研究 | 第60-73页 |
| 6．1 实验方法及条件 | 第60页 |
| 6．2 结果与讨论 | 第60-72页 |
| 6．2．1 膜层组成元素分析 | 第60-62页 |
| 6．2．2 膜层XRD相分析 | 第62-64页 |
| 6．2．3 膜层表面形貌分析 | 第64-66页 |
| 6．2．4 膜层横截面SEM分析 | 第66-68页 |
| 6．2．5 ZL109、LF4两种MAO膜层的比较 | 第68页 |
| 6．2．6 MAO膜层形成过程研究 | 第68-72页 |
| 6．3 结论 | 第72-73页 |
| 第七章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
