| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 ZnO结构及基本特性 | 第12-14页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 氧化锌基本性质 | 第13页 |
| 1.2.3 氧化锌缺陷和掺杂 | 第13-14页 |
| 1.3 ZnO薄膜制备方法 | 第14-17页 |
| 1.3.1 真空蒸发镀膜法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 磁控溅射法 | 第15页 |
| 1.3.3 脉冲激光沉积方法(PLD) | 第15-16页 |
| 1.3.4 分子束外延(MBE) | 第16页 |
| 1.3.5 化学气相沉积(CVD) | 第16页 |
| 1.3.6 喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第16-17页 |
| 1.3.7 溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第17页 |
| 1.4 ZAO应用及研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4.1 ZAO的应用 | 第17-18页 |
| 1.4.2 ZAO研究现状及展望 | 第18页 |
| 1.5 Sr_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3背景及应用 | 第18-19页 |
| 1.6 本课题研究的意义及主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 两种氧化物薄膜制备机理及表征技术 | 第21-35页 |
| 2.1 溶胶凝胶法制备ZAO薄膜的原理及生长机理 | 第21-24页 |
| 2.1.1 溶胶—凝胶法基本原理 | 第21-22页 |
| 2.1.2 溶胶—凝胶法的特点 | 第22-24页 |
| 2.1.3 溶胶—凝胶法制备薄膜生长机理 | 第24页 |
| 2.2 SBTO薄膜制备方法 | 第24-27页 |
| 2.2.1 PLD的基本原理 | 第25-27页 |
| 2.2.2 PLD技术特点和优势 | 第27页 |
| 2.3 两种氧化物薄膜的表征技术 | 第27-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射原理 | 第27-29页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜的结构及原理 | 第29-32页 |
| 2.3.3 高分辨透射电镜观察方法 | 第32-33页 |
| 2.3.4 X射线能量色散谱(EDS) | 第33-35页 |
| 第3章 ZnO：Al薄膜的微观结构研究 | 第35-57页 |
| 3.1 ZnO：Al薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.1 前驱溶液的配置 | 第35页 |
| 3.1.2 薄膜的制备 | 第35页 |
| 3.1.3 薄膜的热处理 | 第35-36页 |
| 3.2 对不同掺杂量的ZnO薄膜X射线分析 | 第36-38页 |
| 3.3 对未掺杂ZnO与不同掺杂量ZAO薄膜电镜分析 | 第38-56页 |
| 3.3.1 未掺杂ZnO薄膜截面样品透射电镜(TEM)分析 | 第38-41页 |
| 3.3.2 不同Al掺杂量下ZnO截面样品透射电镜(TEM)分析 | 第41-47页 |
| 3.3.3 未掺杂ZnO与高掺杂量下ZnO平面样品透射电镜分析 | 第47-50页 |
| 3.3.4 Al掺杂ZnO薄膜样品高分辨电子显微镜观察 | 第50-54页 |
| 3.3.5 对掺杂Al样品分层与表面晶粒尺度大原因的解释 | 第54-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 Sr_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3/La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的微观结构研究 | 第57-73页 |
| 4.1 Sr_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3/La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜制备 | 第57页 |
| 4.2 实验结果 | 第57-67页 |
| 4.2.1 晶体结构 | 第57-58页 |
| 4.2.2 底电极La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_3薄膜的微结构 | 第58-67页 |
| 4.3 不同制备条件下的Sr_(0.5)Ba_(0.5)TiO_3的结构特性 | 第67-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70-73页 |
| 第5章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
