中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 薄膜气相沉积原理的简单介绍 | 第10-12页 |
1.1.1 射频磁控溅射的原理 | 第10-11页 |
1.1.2 离子束溅射的原理 | 第11-12页 |
1.1.3 HFCVD 沉积掺硼金刚石薄膜的原理 | 第12页 |
1.2 几种实验技术的简单介绍 | 第12-17页 |
1.2.1 纳米引晶实验技术 | 第12-13页 |
1.2.2 光刻技术 | 第13-14页 |
1.2.3 垫片封压技术 | 第14-16页 |
1.2.4 高压原位加温技术 | 第16页 |
1.2.5 高压原位测温技术 | 第16-17页 |
1.3 高压原位电学测量方法研究进展 | 第17-18页 |
1.4 论文选题目的 | 第18-20页 |
第二章 用于高压原位电学量测量的硼掺杂金刚石电极的制备与表征 | 第20-30页 |
2.1 研究背景 | 第20-21页 |
2.2 硼掺杂金刚石电极的制备和组装技术 | 第21-26页 |
2.2.1 第一种制备方法的介绍 | 第21-23页 |
2.2.2 带有第一种方法制备的电极的DAC 装置的介绍 | 第23-24页 |
2.2.3 第二种方法制备硼掺杂金刚石电极 | 第24-26页 |
2.2.4 第二种方法制备的电极的DAC 装置的介绍 | 第26页 |
2.3 两种制备电极方法的对比 | 第26-27页 |
2.4 金刚石压砧上的金刚石电极的表征 | 第27-29页 |
2.4.1 拉曼表征 | 第27页 |
2.4.2 SEM 表征 | 第27-28页 |
2.4.3 重掺硼金刚石电极的欧姆特性测量 | 第28-29页 |
2.5 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 高压下石墨粉末电学性质的研究 | 第30-36页 |
3.1 研究背景 | 第30-31页 |
3.2 常温高压原位电学测量实验 | 第31-32页 |
3.3 压力退火后样品的粒度表征 | 第32-34页 |
3.4 本章小结 | 第34-36页 |
第四章 高压下C_(60)富勒烯粉末的电学性质研究 | 第36-44页 |
4.1 研究背景 | 第36-40页 |
4.2 常温高压原位电阻率的测量 | 第40-42页 |
4.3 变温高压原位电学测量实验 | 第42-43页 |
4.4 本章小结 | 第43-44页 |
第五章 高压下Cu_2O 的电学性质及结构相变性质的研究 | 第44-54页 |
5.1 研究背景 | 第44-45页 |
5.2 常温高压原位电阻率测量 | 第45-47页 |
5.3 第一性原理计算四角相Cu_2O 的带隙随压力变化的情况 | 第47-48页 |
5.4 Cu_2O 的粒度表征 | 第48-50页 |
5.5 不同形貌Cu_2O 的电学性质对比性研究 | 第50-51页 |
5.6 本章小结 | 第51-54页 |
第六章 总结与展望 | 第54-56页 |
6.1 总结 | 第54-55页 |
6.2 展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-68页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第68-74页 |
致谢 | 第74页 |