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高压下石墨、C60和Cu2O的电学性质

中文摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 薄膜气相沉积原理的简单介绍第10-12页
        1.1.1 射频磁控溅射的原理第10-11页
        1.1.2 离子束溅射的原理第11-12页
        1.1.3 HFCVD 沉积掺硼金刚石薄膜的原理第12页
    1.2 几种实验技术的简单介绍第12-17页
        1.2.1 纳米引晶实验技术第12-13页
        1.2.2 光刻技术第13-14页
        1.2.3 垫片封压技术第14-16页
        1.2.4 高压原位加温技术第16页
        1.2.5 高压原位测温技术第16-17页
    1.3 高压原位电学测量方法研究进展第17-18页
    1.4 论文选题目的第18-20页
第二章 用于高压原位电学量测量的硼掺杂金刚石电极的制备与表征第20-30页
    2.1 研究背景第20-21页
    2.2 硼掺杂金刚石电极的制备和组装技术第21-26页
        2.2.1 第一种制备方法的介绍第21-23页
        2.2.2 带有第一种方法制备的电极的DAC 装置的介绍第23-24页
        2.2.3 第二种方法制备硼掺杂金刚石电极第24-26页
        2.2.4 第二种方法制备的电极的DAC 装置的介绍第26页
    2.3 两种制备电极方法的对比第26-27页
    2.4 金刚石压砧上的金刚石电极的表征第27-29页
        2.4.1 拉曼表征第27页
        2.4.2 SEM 表征第27-28页
        2.4.3 重掺硼金刚石电极的欧姆特性测量第28-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第三章 高压下石墨粉末电学性质的研究第30-36页
    3.1 研究背景第30-31页
    3.2 常温高压原位电学测量实验第31-32页
    3.3 压力退火后样品的粒度表征第32-34页
    3.4 本章小结第34-36页
第四章 高压下C_(60)富勒烯粉末的电学性质研究第36-44页
    4.1 研究背景第36-40页
    4.2 常温高压原位电阻率的测量第40-42页
    4.3 变温高压原位电学测量实验第42-43页
    4.4 本章小结第43-44页
第五章 高压下Cu_2O 的电学性质及结构相变性质的研究第44-54页
    5.1 研究背景第44-45页
    5.2 常温高压原位电阻率测量第45-47页
    5.3 第一性原理计算四角相Cu_2O 的带隙随压力变化的情况第47-48页
    5.4 Cu_2O 的粒度表征第48-50页
    5.5 不同形貌Cu_2O 的电学性质对比性研究第50-51页
    5.6 本章小结第51-54页
第六章 总结与展望第54-56页
    6.1 总结第54-55页
    6.2 展望第55-56页
参考文献第56-68页
作者简介及在学期间所取得的科研成果第68-74页
致谢第74页

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