摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-21页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 铁电材料的特性 | 第10-16页 |
1.2.1 电滞回线 | 第10-12页 |
1.2.2 铁电畴和畴壁 | 第12页 |
1.2.3 极化反转机制 | 第12-13页 |
1.2.4 铁电相变 | 第13-15页 |
1.2.5 压电性 | 第15-16页 |
1.3 钙钛矿型铁电材料 | 第16-18页 |
1.4 铁电材料的应用和发展 | 第18-19页 |
1.5 课题的目的和意义 | 第19-21页 |
2 薄膜的制备和表征方法 | 第21-32页 |
2.1 脉冲激光沉积 | 第21-23页 |
2.2 X射线衍射 | 第23-24页 |
2.2.1 X射线衍射技术 | 第23页 |
2.2.2 同步辐射X射线衍射技术 | 第23-24页 |
2.3 扫描探针显微镜 | 第24-32页 |
2.3.1 原子力显微镜 | 第24-26页 |
2.3.2 压电力显微镜 | 第26-29页 |
2.3.3 探针与试样之间的机械力 | 第29-30页 |
2.3.4 本文使用的实验条件 | 第30-32页 |
3 高质量外延Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜的制备 | 第32-41页 |
3.1 靶材的制备 | 第32-34页 |
3.2 单晶衬底的湿化学处理 | 第34-36页 |
3.3 Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜的PLD生长 | 第36-38页 |
3.4 晶体结构表征 | 第38-39页 |
3.5 本章小节 | 第39-41页 |
4 应变对Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜中铁弹畴的调控 | 第41-47页 |
4.1 Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜中的a/c多畴结构 | 第41-43页 |
4.2 薄膜厚度对铁弹畴的调控 | 第43-44页 |
4.3 衬底类型对铁弹畴的调控 | 第44-46页 |
4.4 本章小结 | 第46-47页 |
5 畴结构对Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化反转的影响 | 第47-61页 |
5.1 Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的电反转 | 第47-52页 |
5.1.1 a/c多畴Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的电反转 | 第47-51页 |
5.1.2 只有c畴结构的Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的电反转 | 第51-52页 |
5.2 Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的力反转 | 第52-58页 |
5.2.1 a/c多畴Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的力反转 | 第53-56页 |
5.2.2 只有c畴结构的Pb(Zr_(0.1)Ti_(0.9))O_3薄膜极化的力反转 | 第56-58页 |
5.3 极化反转的能量势垒模型 | 第58-59页 |
5.4 本章小结 | 第59-61页 |
6 结论与展望 | 第61-63页 |
6.1 结论 | 第61-62页 |
6.2 展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
附录 | 第71页 |