| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 符号表 | 第13-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-29页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第17-19页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第19-27页 |
| 1.2.1 光学常数的实验测量 | 第20-24页 |
| 1.2.2 表面粗糙度的影响及修正 | 第24-25页 |
| 1.2.3 介电函数模型及计算方法 | 第25-27页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 光学常数的椭偏测量原理与表面粗糙度对反射及椭偏特性的影响 | 第29-58页 |
| 2.1 椭偏实验的基本原理 | 第29-33页 |
| 2.1.1 椭偏参数及椭偏测量的基本原理 | 第29-31页 |
| 2.1.2 椭偏仪的基本原理 | 第31-32页 |
| 2.1.3 IR-VASE型高温红外椭偏仪 | 第32-33页 |
| 2.2 粗糙表面大角度下的反射特性 | 第33-44页 |
| 2.2.1 数值模拟方法 | 第33-37页 |
| 2.2.2 反射特性测量装置 | 第37-40页 |
| 2.2.3 结果与分析 | 第40-44页 |
| 2.3 微粗糙表面与理想光滑表面镜向反射率的偏差 | 第44-55页 |
| 2.3.1 入射角的影响 | 第45-52页 |
| 2.3.2 相对粗糙度的影响 | 第52-55页 |
| 2.4 微粗糙表面与理想光滑表面椭偏参数的偏差 | 第55-56页 |
| 2.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第3章 椭偏测量中粗糙表面的修正方法 | 第58-80页 |
| 3.1 引言 | 第58页 |
| 3.2 基于有效介质理论的表面粗糙度层模型 | 第58-60页 |
| 3.3 表面粗糙度层的修正效果 | 第60-69页 |
| 3.3.1 模型及计算方法 | 第60-62页 |
| 3.3.2 粗糙表面的椭偏参数 | 第62-64页 |
| 3.3.3 粗糙度的影响 | 第64-66页 |
| 3.3.4 入射角的影响 | 第66-69页 |
| 3.4 椭偏法在表面粗糙度测量中的应用 | 第69-78页 |
| 3.4.1 周期性粗糙表面 | 第70-72页 |
| 3.4.2 随机粗糙表面 | 第72-76页 |
| 3.4.3 实验验证 | 第76-78页 |
| 3.5 本章小结 | 第78-80页 |
| 第4章 氟化镁晶体和典型高温陶瓷红外波段高温光学常数及其温度依赖性 | 第80-113页 |
| 4.1 引言 | 第80页 |
| 4.2 经典Lorentz振子模型 | 第80-81页 |
| 4.3 氟化镁晶体的高温光学常数 | 第81-91页 |
| 4.3.1 氟化镁样片的透射及椭偏特性 | 第81-83页 |
| 4.3.2 温度对氟化镁晶体椭偏参数的影响 | 第83-84页 |
| 4.3.3 温度对氟化镁光学常数的影响 | 第84-89页 |
| 4.3.4 温度对氟化镁表观热辐射特性的影响 | 第89-91页 |
| 4.4 陶瓷材料的高温光学常数 | 第91-111页 |
| 4.4.1 氧化铝陶瓷 | 第91-100页 |
| 4.4.2 氮化铝陶瓷 | 第100-106页 |
| 4.4.3 氮化硅陶瓷 | 第106-111页 |
| 4.5 本章小结 | 第111-113页 |
| 第5章 典型金属材料红外波段高温光学常数及其温度依赖性 | 第113-137页 |
| 5.1 引言 | 第113页 |
| 5.2 经典Drude模型及Lorentz-Drude模型 | 第113-114页 |
| 5.3 钛合金TC4的高温光学常数 | 第114-120页 |
| 5.3.1 样片制备与高温防氧化椭偏测量方法 | 第114-116页 |
| 5.3.2 温度对TC4钛合金椭偏参数及光学常数的影响 | 第116-120页 |
| 5.4 镍的高温光学常数 | 第120-125页 |
| 5.5 铝的高温光学常数 | 第125-131页 |
| 5.5.1 铝样片表面氧化层的判别及处理 | 第125-127页 |
| 5.5.2 温度对铝光学常数的影响 | 第127-131页 |
| 5.6 银的高温光学常数 | 第131-135页 |
| 5.7 本章小结 | 第135-137页 |
| 结论 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-152页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第152-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
| 个人简历 | 第156页 |
