| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题的研究背景与意义 | 第10-13页 |
| 1.1.1 分析仪器的概述 | 第10页 |
| 1.1.2 光谱分析技术 | 第10-11页 |
| 1.1.3 辉光放电光谱分析技术 | 第11-13页 |
| 1.2 国内外现状及发展趋势 | 第13-16页 |
| 1.2.1 辉光放电光谱技术研究现状和发展趋势 | 第13-16页 |
| 1.2.2 光谱检测器的研究现状和发展趋势 | 第16页 |
| 1.3 课题的研究内容与意义 | 第16-17页 |
| 1.4 本章小节 | 第17-18页 |
| 第2章 辉光放电光谱分析技术机理 | 第18-25页 |
| 2.1 辉光放电分析机理 | 第18-20页 |
| 2.1.1 辉光放电等离子体 | 第18-19页 |
| 2.1.2 辉光放电基本原理 | 第19-20页 |
| 2.1.3 辉光放电的光谱发射 | 第20页 |
| 2.2 辉光放电激发源 | 第20-23页 |
| 2.2.1 Grimm型激发源结构 | 第20-21页 |
| 2.2.2 辉光放电的两种供能方式 | 第21-23页 |
| 2.2.3 辉光放电分析应用中的改进措施 | 第23页 |
| 2.3 辉光放电光谱检测器的发展及应用 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小节 | 第24-25页 |
| 第3章 射频辉光放电系统实验平台的设计 | 第25-36页 |
| 3.1 辉光放电激发源 | 第25-28页 |
| 3.1.1 阳极筒 | 第26页 |
| 3.1.2 阴极盘 | 第26-27页 |
| 3.1.3 放电腔和石英窗 | 第27-28页 |
| 3.1.4 气路 | 第28页 |
| 3.2 射频供电系统 | 第28-29页 |
| 3.3 CCD光谱检测系统 | 第29-31页 |
| 3.4 顶样装置与抽真空系统 | 第31-33页 |
| 3.5 射频辉光放电系统平台的组装与连接 | 第33-34页 |
| 3.6 射频辉光放电系统调试 | 第34-35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 射频辉光放电光谱分析系统对金属样品的分析实验 | 第36-50页 |
| 4.1 辉光放电系统对金属样品的激发 | 第36-39页 |
| 4.1.1 辉光放电系统实现对样品的溅射激发的实验步骤 | 第36-37页 |
| 4.1.2 辉光放电系统实现对样品的溅射激发的坑型 | 第37-38页 |
| 4.1.3 实验前后的处理与清洁 | 第38-39页 |
| 4.2 元素特征光谱信号的采集与分析 | 第39-44页 |
| 4.2.1 镀锌板样品分析实验 | 第40-41页 |
| 4.2.2 铁基块状样品分析实验 | 第41-43页 |
| 4.2.3 铜基块状样品分析实验 | 第43-44页 |
| 4.3 讨论射频功率与氩气压强对辉光放电系统激发效果的影响 | 第44-47页 |
| 4.3.1 射频功率对辉光放电系统激发效果的影响 | 第44-45页 |
| 4.3.2 氩气压强对辉光放电系统激发效果的影响 | 第45-47页 |
| 4.4 实验中遇到的问题及解决方案 | 第47-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 总结 | 第50页 |
| 5.2 展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读工程硕士学位期间发表论文情况 | 第56页 |
