| 中文摘要 | 第4-6页 |
| 英文摘要 | 第6页 |
| 引言 | 第8-14页 |
| 第一部分：铂纳米微粒的微波高压液相合成及光谱特性研究 | 第14-20页 |
| 1．1 实验部分 | 第14页 |
| 1．1．1 仪器与试剂 | 第14页 |
| 1．1．2 实验方法 | 第14页 |
| 1．2 结果与讨论 | 第14-20页 |
| 1．2．1 微波高压液相法制备铂纳米粒子 | 第14-16页 |
| 1．2．2 液相铂纳米粒子体系的吸收光谱（AS） | 第16-18页 |
| 1．2．3 瑞利散射光谱（RS） | 第18-20页 |
| 第二部分：HSA-硅钨杂多酸缔合纳米微粒体系的荧光猝灭机理 | 第20-26页 |
| 2．1 实验部分 | 第20页 |
| 2．1．1 主要仪器与试剂 | 第20页 |
| 2．1．2 实验方法 | 第20页 |
| 2．2 结果与讨论 | 第20-26页 |
| 2．2．1 体系的吸收光谱 | 第21-22页 |
| 2．2．2 体系的荧光光谱和发射光谱 | 第22页 |
| 2．2．3 体系的瑞利散射光谱 | 第22-23页 |
| 2．2．4 实验条件的影响 | 第23-26页 |
| 2．2．4．1 HSA浓度的影响 | 第23-24页 |
| 2．2．4．2 SiW浓度的影响与荧光猝灭 | 第24页 |
| 2．2．4．3 pH的影响 | 第24-26页 |
| 第三部分：（AuI_4~--CTMA）_n缔合物纳米微粒的瑞利散射光谱研究 | 第26-39页 |
| 3．1 实验部分 | 第26页 |
| 3．1．1 仪器与主要试剂 | 第26页 |
| 3．1．2 实验方法 | 第26页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第26-37页 |
| 3．2．1 体系的吸收光谱 | 第27-28页 |
| 3．2．2 体系的瑞利散射光谱 | 第28-30页 |
| 3．2．3 实验条件的影响 | 第30-37页 |
| 3．2．3．1 Au（III）浓度的影响 | 第30-31页 |
| 3．2．3．2 KI浓度的影响 | 第31页 |
| 3．2．3．3 反应时间的影响 | 第31-32页 |
| 3．2．3．4 pH的影响 | 第32-33页 |
| 3．2．3．5 CTMAB浓度的影响 | 第33-34页 |
| 3．2．3．6 AuI_4~－与其它阳离子表面活性剂的作用 | 第34-36页 |
| 3．2．3．7 乙醇、丙酮等有机溶剂的影响 | 第36-37页 |
| 3．3 结论 | 第37-39页 |
| 第四部分：AuI_4~--CTMAB缔合微粒体系的吸收光谱研究及分析应用 | 第39-46页 |
| 4．1 实验部分 | 第39页 |
| 4．1．1 仪器与主要试剂 | 第39页 |
| 4．1．2 实验方法 | 第39页 |
| 4．2 结果与讨论 | 第39-46页 |
| 4．2．1 体系的吸收光谱 | 第40页 |
| 4．2．2 测定条件选择 | 第40-43页 |
| 4．2．2．1 HCl浓度的影响 | 第40-41页 |
| 4．2．2．2 Au（III）浓度的影响 | 第41-42页 |
| 4．2．2．3 KI浓度的影响 | 第42页 |
| 4．2．2．4 工作曲线 | 第42-43页 |
| 4．2．2．5 方法的选择性 | 第43页 |
| 4．2．3 分析应用 | 第43-44页 |
| 4．2．4 瑞利散射光谱与纳米微粒的存在 | 第44-46页 |
| 总结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-54页 |
| 主要研究成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
