12kV旋转盘式真空断路器的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 概述 | 第9页 |
| 1.2 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.3. 课题国内外研究现状及发展趋势 | 第10-12页 |
| 1.4.本文主要研究究内容 | 第12-14页 |
| 第2章 旋转盘式真空断路器结构的设计 | 第14-23页 |
| 2.1 导电杆直径设计 | 第16-17页 |
| 2.2 触头结构的设计及材料的选择 | 第17-18页 |
| 2.2.1 触头直径的设计 | 第17-18页 |
| 2.2.2 触头材料开距的选择 | 第18页 |
| 2.3 屏蔽罩设计 | 第18-20页 |
| 2.4 绝缘外壳的设计 | 第20页 |
| 2.5 其它零部件 | 第20-21页 |
| 2.6 真空断路器的结构特点 | 第21-22页 |
| 2.7 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 旋转盘式真空断路器三维电场的分析 | 第23-35页 |
| 3.1 真空间隙击穿机理 | 第23-24页 |
| 3.1.1 场致发射学说 | 第23页 |
| 3.1.2 微粒撞击学说 | 第23-24页 |
| 3.2 影响真空击穿的各种因素 | 第24-25页 |
| 3.3 电场分析数学模型 | 第25-28页 |
| 3.4 真空灭弧室内部电场分布 | 第28-33页 |
| 3.4.1 灭弧室中心平面电势和电场强度分布 | 第28-31页 |
| 3.4.2 三相导电杆平面的电场分布 | 第31-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第4章 旋转盘式真空断路器三维磁场的分析 | 第35-51页 |
| 4.1 真空电弧特性 | 第35-36页 |
| 4.1.1 扩散型真空电弧 | 第35-36页 |
| 4.1.2 集聚型真空电弧 | 第36页 |
| 4.2 纵向磁场对真空电弧的控制技术 | 第36-40页 |
| 4.2.1 纵向磁场与电弧形态 | 第36-37页 |
| 4.2.2 纵向磁场对真空电弧的作用 | 第37-39页 |
| 4.2.3 纵向磁场电极结构与剩余磁场 | 第39-40页 |
| 4.3 电极结构数学模型建立 | 第40-43页 |
| 4.4 盘式结构三维磁场仿真 | 第43-47页 |
| 4.4.1 触头片开槽情况三维磁场分析 | 第43-45页 |
| 4.4.2 触头片不开槽情况三维磁场分析 | 第45-47页 |
| 4.5 传统触头结构三维磁场分析 | 第47-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 总结与展望 | 第51-53页 |
| 5.1 本文研究总结 | 第51-52页 |
| 5.2 展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
