石墨烯纳米带的制备与性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1.绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 石墨烯 | 第9-15页 |
| 1.2.1 石墨烯的研究进展 | 第9-11页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备 | 第11-12页 |
| 1.2.3 石墨烯的转移技术 | 第12-13页 |
| 1.2.4 石墨烯的表征手段 | 第13-15页 |
| 1.3 石墨烯纳米带研究背景及研究意义 | 第15-19页 |
| 1.3.1 石墨烯纳米带的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.3.2 石墨烯纳米带的应用前景 | 第16页 |
| 1.3.3 石墨烯纳米带的制备技术 | 第16-19页 |
| 1.4 课题来源及研究内容 | 第19-21页 |
| 1.4.1 课题来源 | 第19页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第19-21页 |
| 2 石墨烯的制备、转移、性能表征及机理分析 | 第21-35页 |
| 2.1 石墨烯的CVD法制备 | 第21-28页 |
| 2.1.1 实验部分 | 第21-23页 |
| 2.1.2 石墨烯的表面清洁及质量控制 | 第23-26页 |
| 2.1.3 石墨烯的层数控制 | 第26-28页 |
| 2.2 石墨烯的表征及性能测试 | 第28-31页 |
| 2.2.1 石墨烯TEM表征 | 第28-30页 |
| 2.2.2 石墨烯的透光性测试 | 第30页 |
| 2.2.3 石墨烯的导电性测试 | 第30-31页 |
| 2.3 常压下铜箔表面石墨烯的生长机理分析 | 第31-33页 |
| 2.4 小结 | 第33-35页 |
| 3 石墨烯纳米带的制备表征及性能测试 | 第35-47页 |
| 3.1 石墨烯纳米带的制备与表征 | 第35-40页 |
| 3.1.1 实验部分 | 第35页 |
| 3.1.2 石墨烯的反应离子刻蚀及机理分析 | 第35-40页 |
| 3.2 石墨烯纳米带的表征与性能测试 | 第40-45页 |
| 3.2.1 石墨烯纳米带的制备过程与表征 | 第40-43页 |
| 3.2.2 石墨烯纳米带的导电性测试 | 第43页 |
| 3.2.3 气敏性分析 | 第43-45页 |
| 3.2.4 半导体热敏性分析 | 第45页 |
| 3.4 小结 | 第45-47页 |
| 4 石墨烯纳米材料的制备工艺及性能研究 | 第47-56页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 二维纳米多孔石墨烯的制备工艺 | 第47-51页 |
| 4.2.1 实验部分 | 第47-50页 |
| 4.2.2 结果测试 | 第50-51页 |
| 4.3 石墨烯纳米盘阵列的制备工艺 | 第51-55页 |
| 4.3.1 实验部分 | 第51-53页 |
| 4.3.2 实验结果 | 第53-55页 |
| 4.4 小结 | 第55-56页 |
| 5 全文总结展望 | 第56-59页 |
| 5.1 主要结论 | 第56-57页 |
| 5.2 本文创新点 | 第57页 |
| 5.3 展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第68页 |
