首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文--薄膜的生长、结构和外延论文

Ta或La掺杂HfO2薄膜结构及其性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
引言第9-10页
1 绪论第10-16页
    1.1 高k栅介质材料的应用第10-12页
    1.2 高k栅介质材料的制备方法第12-13页
    1.3 高k栅介质材料的发展第13-14页
    1.4 Hf基高栅介质材料的发展第14-16页
2 薄膜的制备和表征方法第16-26页
    2.1 薄膜制备技术第16-20页
        2.1.1 溅射原理第16-17页
        2.1.2 射频減射第17页
        2.1.3 磁控溅射第17-20页
    2.2 薄膜的表征方法第20-26页
        2.2.1 X-射线荧光光谱(XRF)仪器第20-21页
        2.2.2 电子探针仪(EPMA)第21-22页
        2.2.3 X-射线衍射(XRD)谱仪第22-23页
        2.2.4 原子力显微镜(AFM)第23-24页
        2.2.5 透射光谱第24-26页
3 反应射频磁控溅射制备HfTaO薄膜及其性能表征第26-36页
    3.1 HfTaO薄膜的制备方法第26页
    3.2 HfTaO薄膜的表征手段第26页
    3.3 结果与讨论第26-35页
        3.3.1 HfTaO薄膜成分与沉积速率第26-27页
        3.3.2 HfTaO薄膜的表面形貌第27-29页
        3.3.3 HfTaO薄膜XRD结构表征第29-32页
        3.3.4 HfTaO薄膜的光学性质第32-35页
    3.4 本章小结第35-36页
4 反应射频磁控溅射制备HfLaO薄膜及其性能表征第36-46页
    4.1 HfLaO薄膜的制备方法第36页
    4.2 HfLaO薄膜的表征手段第36页
    4.3 结果与讨论第36-45页
        4.3.1 HfLaO薄膜的成分与沉积速率第36-37页
        4.3.2 HfLaO薄膜的表面形貌第37-39页
        4.3.3 HfLaO薄膜的结构表征第39-42页
        4.3.4 HfLaO薄膜的光学性质第42-45页
    4.4 本章小结第45-46页
结论第46-47页
参考文献第47-50页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第50-51页
致谢第51-52页

论文共52页,点击 下载论文
上一篇:n-ZnO/ZnMgO/p-GaN载流子传输机制和VO2薄膜太赫兹光谱研究
下一篇:碳纳米线圈—二氧化锰复合材料的制备及其电化学特性的研究