| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 WO_3薄膜的制备 | 第10-12页 |
| 1.3 WO_3晶体结构分析 | 第12-13页 |
| 1.4 纳米结构对于电致变色的影响 | 第13-16页 |
| 1.5 锂化法的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.6 主要研究目的和内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验材料及试验方法 | 第18-22页 |
| 2.1 实验仪器和设备 | 第18页 |
| 2.2 实验试剂 | 第18页 |
| 2.3 材料的形貌表征方法 | 第18-19页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第18-19页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜 | 第19页 |
| 2.4 材料的结构与成分表征方法 | 第19页 |
| 2.5 材料表征方法 | 第19-22页 |
| 2.5.1 薄膜的循环伏安性能测试 | 第19页 |
| 2.5.2 薄膜的透过率测试 | 第19-21页 |
| 2.5.3 薄膜光学密度的性能测试 | 第21页 |
| 2.5.4 光子能量的换算 | 第21-22页 |
| 第3章 电沉积制备 WO_3薄膜及其生长机理分析 | 第22-40页 |
| 3.1 WO_3薄膜的制备 | 第22页 |
| 3.1.1 基片清洗 | 第22页 |
| 3.1.2 钨酸钠中性薄膜制备 | 第22页 |
| 3.1.3 钨酸钠酸性薄膜制备 | 第22页 |
| 3.2 中性钨酸钠电解液电沉积 | 第22-26页 |
| 3.2.1 中性钨酸钠电解液电沉积的动力学分析 | 第22-23页 |
| 3.2.2 薄膜的形貌表征 | 第23-24页 |
| 3.2.3 薄膜的成分及晶体结构分析 | 第24-26页 |
| 3.3 酸性钨酸钠电解液电沉积 | 第26-31页 |
| 3.3.1 酸性电解液的机理分析 | 第26-27页 |
| 3.3.2 酸性钨酸钠电解液的平衡状态分析 | 第27-28页 |
| 3.3.3 酸性钨酸钠电解液电沉积的动力学分析 | 第28-31页 |
| 3.4 WO_3薄膜生长机理分析 | 第31-38页 |
| 3.4.0 WO_3薄膜的疏松层生长机理 | 第31-33页 |
| 3.4.1 WO_3薄膜双层结构生长机理 | 第33-35页 |
| 3.4.2 WO_3薄膜致密层生长机理 | 第35-36页 |
| 3.4.3 WO_3薄膜孔结构的形成 | 第36-37页 |
| 3.4.4 WO_3双层孔结构薄膜的制备 | 第37页 |
| 3.4.5 WO_3薄膜的成分及结构分析 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 WO_3薄膜的电致变色性能研究 | 第40-58页 |
| 4.1 0.01mol/L 硫酸中薄膜的电致变色性能 | 第40-47页 |
| 4.1.1 0.01mol/L 硫酸中薄膜着色过程透过率分析 | 第40-42页 |
| 4.1.2 薄膜电致变色的色心理论解释 | 第42-44页 |
| 4.1.3 0.01mol/L 硫酸着色过程的色心理论分析 | 第44-46页 |
| 4.1.4 0.01mol/L 硫酸脱色过程中透过率分析 | 第46-47页 |
| 4.2 0.1mol/L 硫酸中薄膜电致变色性能 | 第47-51页 |
| 4.2.1 0.1mol/L 硫酸中着色过程色心理论分析 | 第47-50页 |
| 4.2.2 0.1mol/L 硫酸脱色过程中透过率分析 | 第50-51页 |
| 4.3 固态电解质中薄膜电致变色性能 | 第51-54页 |
| 4.3.1 固态电解中着色过程色心理论分析 | 第51-53页 |
| 4.3.2 固态电解中脱色过程透过率分析 | 第53-54页 |
| 4.4 1mol/L LiClO4/PC 薄膜电致变色性能 | 第54-56页 |
| 4.4.1 1mol/L LiClO4/PC 中着色过程色心理论分析 | 第54-55页 |
| 4.4.2 1mol/L LiClO4/PC 脱色过程透过率分析 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 WO_3薄膜的锂化及离子扩散性能研究 | 第58-75页 |
| 5.1 新制备薄膜的扩散性能 | 第58-62页 |
| 5.1.1 0.01mol/L 硫酸中新制备薄膜的扩散性能研究 | 第58-60页 |
| 5.1.2 0.1mol/L 硫酸中新制备薄膜的扩散性能研究 | 第60-62页 |
| 5.2 活化后薄膜的扩散性能研究 | 第62-65页 |
| 5.2.1 薄膜的活化过程 | 第62页 |
| 5.2.2 活化后薄膜的扩散性能研究 | 第62-64页 |
| 5.2.3 恒电位着色后薄膜电致变色性能研究 | 第64-65页 |
| 5.3 锂化法对于薄膜扩散性能的影响 | 第65-74页 |
| 5.3.1 锂化法对于薄膜形貌的影响 | 第65-67页 |
| 5.3.2 锂化法后薄膜的循环伏安分析 | 第67-69页 |
| 5.3.3 LiClO4/PC 中 WO_3薄膜的电位弛豫分析 | 第69-71页 |
| 5.3.4 固态电解质中薄膜的电位弛豫分析 | 第71-74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
