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室温下金属Al、Au纳米膜与硅基片相互作用及膜光、电特性研究

学位论文数据集第3-4页
摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第15-19页
    1.1 纳米技术工艺发展第15-17页
    1.2 论文选题的目的和意义第17页
        1.2.1 本文的研究目的第17页
        1.2.2 本文的创新点第17页
    1.3 本章小结第17-19页
第二章 硅基片与薄膜的相互作用第19-35页
    2.1 简介第19页
    2.2 实验原料与仪器第19-20页
        2.2.1 实验原料第19页
        2.2.2 实验仪器第19-20页
    2.3 纳米硅衬底的制备第20-21页
        2.3.1 表面环岛状结构硅衬底第20-21页
        2.3.2 表面多孔状结构硅衬底第21页
    2.4 纳米硅衬底的表面结构第21-26页
        2.4.1 环岛状结构硅衬底的表面形貌第21-23页
        2.4.2 多孔状结构硅衬底的表面形貌第23-26页
    2.5 纳米金属薄膜的制备及表征第26-33页
        2.5.1 不同表面结构衬底与纳米金(Au)膜的相互作用第27-31页
        2.5.2 不同表面结构衬底与纳米铝(Al)膜的相互作用第31-33页
    2.6 本章小结第33-35页
第三章 电子在薄膜中的传输特征第35-43页
    3.1 测试方法简述第35页
    3.2 金(Au)膜中电子的传输特征第35-39页
        3.2.1 环岛状结构纳米Au膜导电性测试第35-37页
        3.2.2 多孔结构衬底纳米Au膜导电性测试第37-39页
    3.3 铝(Al)膜导电子的传输特征第39-42页
        3.3.1 环岛状结构纳米Al膜导电性测试第39-41页
        3.3.2 多孔结构衬底纳米Al膜导电性测试第41-42页
    3.4 本章小结第42-43页
第四章 纳米Au膜电子输运理论模拟第43-57页
    4.1 纳米Au膜电子传输特征简述第43页
    4.2 电阻率与尺寸第43-44页
        4.2.1 准经典近似条件第43页
        4.2.2 金属薄膜电阻率第43-44页
    4.3 二维模型的模拟计算第44-50页
        4.3.1 多重N方势垒模型第44-46页
        4.3.2 Matlab软件程序第46-48页
        4.3.3 Matlab软件模拟结果及讨论第48-50页
    4.4 薄膜中电子的相互作用第50-56页
        4.4.1 库仑阻塞效应第50-51页
        4.4.2 量子岛模型第51-52页
        4.4.3 薄膜导电性理论计算第52-55页
        4.4.4 薄膜导电特性讨论分析第55-56页
    4.5 本章小结第56-57页
第五章 多层纳米Au/DPO薄膜荧光特性第57-65页
    5.1 纳米Au薄膜荧光特性简述第57页
    5.2 实验第57-58页
    5.3 纳米Au/DPO多层膜荧光性测试结果及分析第58-63页
        5.3.1 Au层与DPO层的相互作用第58-59页
        5.3.2 不同多层薄膜的紫外荧光测试第59-62页
        5.3.3 不同多层薄膜的表面表征第62-63页
    5.4 本章小结第63-65页
第六章 总结与展望第65-67页
参考文献第67-71页
致谢第71-73页
研究成果及发表的学术论文第73-75页
导师简介第75-77页
作者简介第77-79页
附件第79-80页

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