学位论文数据集 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
符号说明 | 第15-16页 |
第一章 文献综述 | 第16-34页 |
1.1 引言 | 第16-17页 |
1.2 煤制天然气工艺 | 第17-21页 |
1.2.1 煤气化技术发展现状 | 第17-18页 |
1.2.2 甲烷化工艺发展现状 | 第18-21页 |
1.3 CO甲烷化催化剂 | 第21-30页 |
1.3.1 活性组分 | 第21-22页 |
1.3.2 载体 | 第22-26页 |
1.3.3 助剂 | 第26-28页 |
1.3.4 催化剂失活 | 第28-30页 |
1.4 CO甲烷化反应 | 第30-32页 |
1.4.1 反应机理 | 第30-31页 |
1.4.2 反应过程 | 第31-32页 |
1.5 本论文研究意义及内容 | 第32-34页 |
1.5.1 研究意义 | 第32页 |
1.5.2 研究内容 | 第32-34页 |
第二章 实验部分 | 第34-42页 |
2.1 实验试剂和仪器 | 第34-35页 |
2.1.1 实验试剂 | 第34页 |
2.1.2 实验设备 | 第34-35页 |
2.2 催化剂的制备 | 第35-38页 |
2.2.1 制备常规Ni/SiC和Ni/Al_2O_3催化剂 | 第35页 |
2.2.2 沉淀法制备Ni/Al_2O_3-SiC催化剂 | 第35-36页 |
2.2.3 EISA法制备Ni/Al_2O_3@SiC催化剂 | 第36-37页 |
2.2.4 沉淀法制备Ni/Mg_xAl_yO_z催化剂 | 第37-38页 |
2.3 催化剂的性能测试 | 第38-39页 |
2.4 载体和催化剂的表征方法 | 第39-42页 |
2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第39页 |
2.4.2 N_2-吸附 | 第39-40页 |
2.4.3 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第40页 |
2.4.4 透射电子显微镜(TEM) | 第40页 |
2.4.5 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第40页 |
2.4.6 热重(TG-DTG) | 第40页 |
2.4.7 C0_2程序升温脱附(CO_2-TPD) | 第40-41页 |
2.4.8 扫描电子显微镜(SEM) | 第41-42页 |
第三章 Ni/Al_2O_3@SiC催化剂在一氧化碳甲烷化反应中的性能研究 | 第42-62页 |
3.1 引言 | 第42-43页 |
3.2 催化剂CO甲烷化活性评价 | 第43-48页 |
3.2.1 不同Al_2O_3含量15Ni/Al_2O_3@SiC催化剂的活性评价 | 第43-44页 |
3.2.2 15Ni/20Al_2O_3@SiC催化剂焙烧温度优化 | 第44-45页 |
3.2.3 15Ni/20Al_2O_3@SiC催化剂还原温度优化 | 第45-46页 |
3.2.4 15Ni/SiC、15Ni/Al_2O_3、15Ni/20Al_2O_3-SiC和15Ni/20Al_2O_3@SiC催化剂的性能比较 | 第46-48页 |
3.3 载体SEM表征 | 第48-49页 |
3.4 催化剂表征 | 第49-57页 |
3.4.1 N_2-吸附 | 第49-51页 |
3.4.2 XRD | 第51-52页 |
3.4.3 H_2-TPR | 第52-53页 |
3.4.4 TEM | 第53-56页 |
3.4.5 NH_3-TPD | 第56页 |
3.4.6 CO_2-TPD | 第56-57页 |
3.5 催化剂CO甲烷化稳定性测试 | 第57-58页 |
3.6 稳定性测试后催化剂表征 | 第58-61页 |
3.6.1 TG-DTG | 第58-60页 |
3.6.2 TEM | 第60-61页 |
3.7 本章小结 | 第61-62页 |
第四章 Ni/Mg_xAl_yO_z催化剂在一氧化碳甲烷化反应中的性能研究 | 第62-70页 |
4.1 引言 | 第62页 |
4.2 催化剂活性评价 | 第62-64页 |
4.2.1 不同镁铝比对15Ni/Mg_xAl_yO_z催化剂催化活性的影响 | 第62-63页 |
4.2.2 添加助剂La_2O_3对15Ni/MgAl_2O_4催化剂催化活性的影响 | 第63-64页 |
4.3 催化剂表征 | 第64-68页 |
4.3.1 N_2-吸附 | 第65页 |
4.3.2 XRD | 第65-66页 |
4.3.3 H_2-TPR | 第66-67页 |
4.3.4 TEM | 第67-68页 |
4.4 本章小结 | 第68-70页 |
第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
5.1 结论 | 第70页 |
5.2 创新点 | 第70-71页 |
5.3 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-80页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第80-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
作者和导师简介 | 第84-86页 |
附件 | 第86-87页 |