| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第12-46页 |
| 1.1 气敏材料概述 | 第12-20页 |
| 1.2 复合气敏材料概述 | 第20-26页 |
| 1.3 复合材料气敏机理 | 第26-35页 |
| 1.4 本文研究的主要内容及意义 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-46页 |
| 2 聚噻吩/石墨烯/WO_3复合材料制备及其低温气敏性能 | 第46-65页 |
| 2.1 前言 | 第46-47页 |
| 2.2 聚噻吩/石墨烯二元复合材料 | 第47-53页 |
| 2.2.1 石墨烯的制备 | 第47-48页 |
| 2.2.2 聚噻吩/石墨烯制备 | 第48页 |
| 2.2.3 表征仪器 | 第48页 |
| 2.2.4 气敏元件制作与气敏测试 | 第48-50页 |
| 2.2.5 聚噻吩/石墨烯制备结果与讨论 | 第50-53页 |
| 2.3 聚噻吩/石墨烯/WO_3三元复合材料 | 第53-54页 |
| 2.3.1 石墨烯/WO_3制备 | 第54页 |
| 2.3.2 聚噻吩/石墨烯/WO_3合成 | 第54页 |
| 2.4 聚噻吩/石墨烯/WO_3制备结果与讨论 | 第54-62页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第54-55页 |
| 2.4.2 红外光谱分析 | 第55-56页 |
| 2.4.3 形貌表征 | 第56-57页 |
| 2.4.4 透射电镜分析 | 第57页 |
| 2.4.5 三元材料比表面积 | 第57-58页 |
| 2.4.6 气敏性能 | 第58-60页 |
| 2.4.7 气敏机理讨论 | 第60-62页 |
| 2.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 3 聚吡咯/石墨烯/In_2O_3复合材料制备及其室温气敏性能 | 第65-78页 |
| 3.1 前言 | 第65-66页 |
| 3.2 实验部分 | 第66-69页 |
| 3.2.1 三维石墨烯制备 | 第66-67页 |
| 3.2.2 二元材料石墨烯/In_2O_3制备 | 第67页 |
| 3.2.3 三元材料聚吡咯/石墨烯/In_2O_3合成 | 第67页 |
| 3.2.4 样品表征仪器 | 第67页 |
| 3.2.5 气敏测试、试剂及仪器设备 | 第67-69页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第69-76页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析 | 第69-70页 |
| 3.3.2 红外光谱分析 | 第70页 |
| 3.3.3 扫描电镜和透射电镜分析 | 第70-72页 |
| 3.3.4 三元材料比表面积 | 第72页 |
| 3.3.5 室温气敏性能 | 第72-74页 |
| 3.3.6 室温NH_3气敏机理讨论 | 第74-76页 |
| 3.4 本章小结 | 第76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 4 聚苯胺/石墨烯/TiO_2复合材料制备及室温氨敏性能 | 第78-92页 |
| 4.1 前言 | 第78-79页 |
| 4.2 实验部分 | 第79-81页 |
| 4.2.1 氧化石墨烯合成与修饰 | 第79-80页 |
| 4.2.2 多孔无定型TiO_2前驱物合成 | 第80页 |
| 4.2.3 含有还原态的TiO_2纳米颗粒合成 | 第80页 |
| 4.2.4 含有还原态的TiO_2纳米颗粒修饰 | 第80页 |
| 4.2.5 含有还原态的TiO_2/GO合成 | 第80页 |
| 4.2.6 PANI/TiO_2/GO合成 | 第80-81页 |
| 4.2.7 表征手段 | 第81页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第81-88页 |
| 4.3.1 X射线衍射分析 | 第81页 |
| 4.3.2 拉曼光谱分析 | 第81-82页 |
| 4.3.3 红外光谱分析 | 第82页 |
| 4.3.4 扫描电镜和透射电镜分析 | 第82-83页 |
| 4.3.5 TiO_2还原态分析 | 第83-84页 |
| 4.3.6 紫外可见漫反射分析 | 第84-85页 |
| 4.3.7 光致发光光谱分析 | 第85页 |
| 4.3.8 常温气敏性能测试 | 第85-87页 |
| 4.3.9 常温氨敏机理 | 第87-88页 |
| 4.4 本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 5 导电高分子/ZnO复合材料制备及紫外光激发下室温气敏性能 | 第92-115页 |
| 5.1 前言 | 第92-93页 |
| 5.2 实验部分 | 第93-95页 |
| 5.2.1 聚苯胺纳米线/氧化锌纳米片合成 | 第93页 |
| 5.2.2 聚噻吩/富含氧空位的氧化锌合成 | 第93-94页 |
| 5.2.3 实验表征 | 第94页 |
| 5.2.4 紫外光激发气敏测试方法与设备 | 第94-95页 |
| 5.3 聚苯胺纳米线/ZnO纳米片复合材料制备结果与讨论 | 第95-101页 |
| 5.3.1 X射线衍射分析 | 第95-96页 |
| 5.3.2 红外光谱分析 | 第96-97页 |
| 5.3.3 形貌表征 | 第97-98页 |
| 5.3.4 透射电镜和元素分析 | 第98页 |
| 5.3.5 氮气吸附和脱附等温线 | 第98页 |
| 5.3.6 光致发光光谱 | 第98-99页 |
| 5.3.7 紫外可见漫反射分析 | 第99-100页 |
| 5.3.8 紫外激发室温气敏性能 | 第100-101页 |
| 5.4 聚噻吩/富含氧空位ZnO复合材料制备结果与讨论 | 第101-108页 |
| 5.4.1 不同煅烧温度氧化锌的XRD分析和氧空位滴定实验测定 | 第101-102页 |
| 5.4.2 ZnO氧空位形成过程 | 第102页 |
| 5.4.3 ZnO、聚噻吩和复合物X射线衍射分析 | 第102-103页 |
| 5.4.4 扫描电镜和透射电镜分析 | 第103-104页 |
| 5.4.5 氧空位的仪器表征和复合物光致发光光谱 | 第104-105页 |
| 5.4.6 红外谱图分析 | 第105-107页 |
| 5.4.7 紫外可见漫反射光谱 | 第107页 |
| 5.4.8 紫外激发室温气敏性能 | 第107-108页 |
| 5.5 紫外光激发室温气敏机理分析 | 第108-111页 |
| 5.5.1 紫外激发氧化锌气敏机理 | 第109-110页 |
| 5.5.2 紫外激发中导电高分子的作用分析 | 第110-111页 |
| 5.5.3 氧空位缺陷和ZnO片状结构作用分析 | 第111页 |
| 5.6 本章小结 | 第111页 |
| 参考文献 | 第111-115页 |
| 6 结论 | 第115-117页 |
| 个人简历、博士期间学术论文与研究成果 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118页 |
