| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-35页 |
| 1.1 金刚石的结构与性能 | 第11-13页 |
| 1.2 CVD金刚石的发展历史与研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 CVD金刚石的生长机理 | 第14-16页 |
| 1.4 CVD金刚石的沉积方法简介 | 第16-31页 |
| 1.4.1 热丝CVD法制备金刚石膜 | 第16-17页 |
| 1.4.2 直流电弧等离子体喷射CVD法制备金刚石膜 | 第17-18页 |
| 1.4.3 微波等离子体CVD法制备金刚石膜 | 第18-31页 |
| 1.5 大面积光学级金刚石膜的沉积 | 第31-33页 |
| 1.5.1 大面积光学级金刚石膜的研究现状 | 第31-32页 |
| 1.5.2 一些提高金刚石膜沉积面积和沉积质量的措施 | 第32-33页 |
| 1.6 本文研究的意义和内容 | 第33-35页 |
| 1.6.1 本文研究的意义 | 第33-34页 |
| 1.6.2 本文的研究内容 | 第34-35页 |
| 第2章 实验过程与手段介绍 | 第35-43页 |
| 2.1 微波等离子体装置 | 第35-36页 |
| 2.2 工艺参数的确定 | 第36-38页 |
| 2.3 表征手段 | 第38-40页 |
| 2.3.1 拉曼光谱 | 第38-39页 |
| 2.3.2 发射光谱 | 第39页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第39页 |
| 2.3.4 光学显微镜 | 第39-40页 |
| 2.3.5 傅里叶红外光谱仪 | 第40页 |
| 2.4 微波等离子体模拟技术 | 第40-43页 |
| 第3章 高功率高气压沉积环境下金刚石膜生长行为的研究 | 第43-61页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 高功率高气压下微波等离子体场的分析 | 第43-47页 |
| 3.3 气压、微波功率对金刚石膜生长的影响 | 第47-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-61页 |
| 第4章 气体流速对金刚石膜沉积的影响 | 第61-71页 |
| 4.1 引言 | 第61-62页 |
| 4.2 不同气体流速对金刚石膜表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| 4.3 不同气体流速对金刚石膜质量的影响 | 第63-65页 |
| 4.4 不同气体流速对金刚石膜沉积速率的影响 | 第65-66页 |
| 4.5 非圆柱多模MPCVD装置流场模拟 | 第66-69页 |
| 4.6 本章小结 | 第69-71页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第71-75页 |
| 5.1 本文总结 | 第71-72页 |
| 5.2 本文不足之处与展望 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
