| 中文摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 主要符号表 | 第12-13页 |
| 第一章 前言 | 第13-32页 |
| 1.1 半导体光催化剂的研究进展 | 第13-22页 |
| 1.1.1 光催化研究背景及发展 | 第13页 |
| 1.1.2 半导体能带结构 | 第13-14页 |
| 1.1.3 光催化基本原理 | 第14-16页 |
| 1.1.4 提高光催化效率的主要途径 | 第16-22页 |
| 1.2 石墨烯基光催化剂的合成策略 | 第22-24页 |
| 1.2.1 以GR为起始原料的合成策略 | 第22-23页 |
| 1.2.2 以GO为起始原料的合成策略 | 第23-24页 |
| 1.3 石墨烯基光催化剂的应用 | 第24-29页 |
| 1.3.1 降解污染物 | 第24-27页 |
| 1.3.2 光解水制氢 | 第27-28页 |
| 1.3.3 选择性氧化还原 | 第28-29页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第29-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-42页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第32-35页 |
| 2.1.1 主要实验药品 | 第32-34页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第34-35页 |
| 2.2 样品的制备 | 第35-36页 |
| 2.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第35页 |
| 2.2.2 溶剂剥离石墨烯的制备 | 第35-36页 |
| 2.2.3 酸处理碳纳米管 | 第36页 |
| 2.3 样品的表征 | 第36-39页 |
| 2.3.1 晶相结构表征(XRD) | 第36页 |
| 2.3.2 紫外-可见漫反射表征(UV-vis DRS) | 第36页 |
| 2.3.3 场发射扫描电镜表征(SEM) | 第36-37页 |
| 2.3.4 场发射透射电子显微镜表征(TEM) | 第37页 |
| 2.3.5 电化学表征 | 第37页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱表征(XPS) | 第37页 |
| 2.3.7 电子顺磁共振表征(ESR) | 第37-38页 |
| 2.3.8 比表面积表征(BET) | 第38页 |
| 2.3.9 荧光光谱表征(PL) | 第38页 |
| 2.3.10 傅立叶变换红外光谱表征(FT-IR) | 第38-39页 |
| 2.3.11 拉曼光谱表征(Raman) | 第39页 |
| 2.4 样品的催化性能评价 | 第39-42页 |
| 2.4.1 气相降解苯 | 第39-40页 |
| 2.4.2 液相降解染料 | 第40页 |
| 2.4.3 光催化选择性氧化 | 第40-42页 |
| 第三章 P25-石墨烯用于气相和液相降解污染物 | 第42-54页 |
| 3.1 引言 | 第42-43页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第43-45页 |
| 3.2.1 P25-石墨烯复合材料的制备 | 第43-44页 |
| 3.2.2 P25-碳纳米管复合材料的制备 | 第44-45页 |
| 3.3 催化剂的表征 | 第45-48页 |
| 3.3.1 晶相结构 | 第45页 |
| 3.3.2 光学性能 | 第45-46页 |
| 3.3.3 形貌分析 | 第46-47页 |
| 3.3.4 吸附性能 | 第47-48页 |
| 3.4 催化剂的光催化性能评价 | 第48-51页 |
| 3.4.1 气相降解苯 | 第48-51页 |
| 3.4.2 液相降解染料 | 第51页 |
| 3.5 光催化反应机理探究 | 第51-53页 |
| 3.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 优化制备TiO_2-石墨烯用于选择性氧化 | 第54-68页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 催化剂的制备 | 第55-56页 |
| 4.2.1 TiO_2-石墨烯复合材料的制备 | 第55页 |
| 4.2.2 TiO_2-碳纳米管复合材料的制备 | 第55-56页 |
| 4.3 催化剂的表征 | 第56-58页 |
| 4.3.1 光学性能 | 第56-57页 |
| 4.3.2 晶相结构 | 第57-58页 |
| 4.3.3 GO还原成GR程度分析 | 第58页 |
| 4.4 催化剂的光催化性能评价 | 第58-62页 |
| 4.4.1 光催化选择性氧化苯甲醇 | 第58-60页 |
| 4.4.2 光催化选择性氧化一系列醇 | 第60-62页 |
| 4.5 光催化性能探究 | 第62-67页 |
| 4.5.1 形貌分析 | 第62-63页 |
| 4.5.2 光电流分析 | 第63-64页 |
| 4.5.3 自由基的检测 | 第64页 |
| 4.5.4 比表面积和孔结构分析 | 第64-65页 |
| 4.5.5 吸附性能 | 第65-67页 |
| 4.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 减少石墨烯缺陷和增加界面接触提高光催化活性 | 第68-79页 |
| 5.1 引言 | 第68-69页 |
| 5.2 TiO_2-缺陷少石墨烯纳米复合材料的制备 | 第69-70页 |
| 5.3 材料表征 | 第70-72页 |
| 5.3.1 SEG表征 | 第70页 |
| 5.3.2 晶相结构 | 第70-71页 |
| 5.3.3 光学性能 | 第71页 |
| 5.3.4 形貌分析 | 第71-72页 |
| 5.4 催化剂的光催化性能评价 | 第72-75页 |
| 5.5 光催化性能探究 | 第75-78页 |
| 5.5.1 光电流分析 | 第75-76页 |
| 5.5.2 阻抗分析 | 第76页 |
| 5.5.3 荧光分析 | 第76-77页 |
| 5.5.4 比表面积和孔结构分析 | 第77-78页 |
| 5.6 本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 石墨烯新作用—光敏剂 | 第79-95页 |
| 6.1 引言 | 第79-80页 |
| 6.2 催化剂的制备 | 第80-81页 |
| 6.2.1 ZnS-石墨烯复合材料的制备 | 第80-81页 |
| 6.2.2 空白ZnS的制备 | 第81页 |
| 6.3 催化剂的表征 | 第81-85页 |
| 6.3.1 晶相结构 | 第81-82页 |
| 6.3.2 表面官能团分析 | 第82-83页 |
| 6.3.3 形貌分析 | 第83-84页 |
| 6.3.4 光学性能 | 第84-85页 |
| 6.4 催化剂的光催化性能评价 | 第85-87页 |
| 6.5 光催化机理探究 | 第87-93页 |
| 6.6 本章小结 | 第93-95页 |
| 第七章 氧化石墨烯的作用—表面活性剂 | 第95-110页 |
| 7.1 引言 | 第95-96页 |
| 7.2 催化剂的制备 | 第96-98页 |
| 7.2.1 Au-Pd/石墨烯复合材料的制备 | 第96-97页 |
| 7.2.2 Au/石墨烯复合材料的制备 | 第97页 |
| 7.2.3 Pd/石墨烯复合材料的制备 | 第97-98页 |
| 7.3 催化剂的表征 | 第98-103页 |
| 7.3.1 晶相结构 | 第98-100页 |
| 7.3.2 形貌分析 | 第100-101页 |
| 7.3.3 表面成分分析 | 第101-103页 |
| 7.3.4 比表面积分析 | 第103页 |
| 7.4 催化剂的光催化性能评价 | 第103-106页 |
| 7.5 光催化反应机理探究 | 第106-109页 |
| 7.6 本章小结 | 第109-110页 |
| 结论与展望 | 第110-113页 |
| 参考文献 | 第113-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 个人简历 | 第129-130页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第130-133页 |
