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新型Ga掺杂ZnO基透明导电薄膜的制备与研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 前言第13-15页
第二章 文献综述第15-35页
    2.1 透明导电氧化物薄膜第15-25页
        2.1.1 TCO薄膜的透明导电机理第15-20页
        2.1.2 TCO薄膜的研究现状第20-22页
        2.1.3 TCO薄膜的应用第22-25页
    2.2 ZnO基透明导电薄膜第25-32页
        2.2.1 ZnO的晶体结构及基本性质第25-27页
        2.2.2 ZnO的能带结构第27页
        2.2.3 ZnO基薄膜的制备方法第27-30页
        2.2.4 ZnO基TCO的研究现状第30-32页
    2.3 本文的选题依据和研究内容第32-35页
第三章 GZO基透明导电薄膜的制备及性能表征第35-43页
    3.1 磁控溅射技术第35-39页
        3.1.1 磁控溅射原理第35-37页
        3.1.2 实验设备第37-38页
        3.1.3 实验工艺第38-39页
    3.2 电子束蒸发技术第39-41页
        3.2.1 蒸发原理第39-40页
        3.2.2 实验设备第40页
        3.2.3 实验工艺第40-41页
    3.3 衬底及其清洗方法第41-42页
    3.4 性能表征第42-43页
第四章 HGZO薄膜的制备以及其性能第43-55页
    4.1 正交实验设计方法第43-46页
        4.1.1 正交实验设计第44页
        4.1.2 正交实验法的基本工具第44-45页
        4.1.3 正交实验设计的基本步骤第45-46页
        4.1.4 正交实验结果分析第46页
    4.2 正交实验设计在HGZO薄膜沉积中的应用第46-54页
        4.2.1 实验因素和水平第46-47页
        4.2.2 正交阵列的设定第47-48页
        4.2.3 信噪比分析第48-50页
        4.2.4 方差分析第50-51页
        4.2.5 最佳条件下生长的HGZO薄膜验证第51-52页
        4.2.6 最佳条件下生长的HGZO薄膜的性能第52-54页
    4.3 本章小结第54-55页
第五章 GZO/Cu栅格/GZO薄膜制备及其性能研究第55-67页
    5.1 Cu层厚度对GZO/Cu/GZO三明治结构薄膜光电性能的影响第57-58页
    5.2 GZO/Cu栅格/GZO薄膜的结构性能第58页
    5.3 GZO/Cu栅格/GZO多层薄膜的光学性能第58-60页
    5.4 GZO/Cu栅格/GZO多层薄膜的电学性能第60-61页
    5.5 实验结果与计算数值对比第61-62页
    5.6 GZO/Cu栅格/GZO多层薄膜的性能指数第62-64页
    5.7 本章小结第64-67页
第六章 GZO/Cu栅格两层薄膜制备及其性能研究第67-77页
    6.1 Cu层厚度对GZO/Cu两层薄膜光电性能的影响第68-69页
    6.2 GZO/Cu栅格透明导电薄膜的结构第69页
    6.3 GZO/Cu栅格结构两层薄膜的光学性能第69-70页
    6.4 GZO/Cu栅格两层薄膜的电学性能第70-71页
    6.5 实验结果与计算数值对比第71-74页
    6.6 GZO/Cu栅格两层薄膜的性能指数第74-75页
    6.7 本章小结第75-77页
第七章 柔性衬底上GZO薄膜的应力性能研究第77-87页
    7.1 GZO薄膜的生长参数与残余应力测量方法第77-79页
        7.1.1 GZO透明导电薄膜的生长参数第77-78页
        7.1.2 GZO薄膜应力测量方法第78-79页
    7.2 对PC衬底上GZO薄膜残余应力的薄膜厚度影响第79-82页
    7.3 对PC衬底上GZO薄膜残余应力的溅射功率影响第82-84页
    7.4 同基片曲率法结果对比第84-85页
    7.5 小结论第85-87页
第八章 结论、应用前景以及展望第87-91页
    8.1 结论第87-89页
    8.2 本文的创新点第89页
    8.3 应用前景与展望第89-91页
参考文献第91-104页
攻读博士期间发表的论文第104页

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