| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| ·研究背景 | 第10-14页 |
| ·光通信发展现状 | 第10-12页 |
| ·单模光纤和多模光纤 | 第12-14页 |
| ·国内外研究现状及发展动态分析 | 第14-17页 |
| ·光网络用光无源器件的特点和类型 | 第14-15页 |
| ·玻璃基离子交换的发展 | 第15-16页 |
| ·多模干涉器件的发展 | 第16-17页 |
| ·项目的研究内容和目标 | 第17-18页 |
| ·项目的研究内容 | 第17-18页 |
| ·研究目标 | 第18页 |
| ·本项目的创新点与全文框架 | 第18-21页 |
| ·创新点 | 第18-19页 |
| ·全文框架 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 2 玻璃基离子交换 | 第23-42页 |
| ·离子交换技术的优势 | 第23-24页 |
| ·离子交换技术基本原理 | 第24-30页 |
| ·玻璃的结构 | 第24-25页 |
| ·迁移机理 | 第25-30页 |
| ·折射率变化 | 第30页 |
| ·离子交换技术的特点与分类 | 第30-34页 |
| ·按交换离子分类 | 第30-32页 |
| ·干法交换和湿法交换 | 第32-33页 |
| ·一次热交换、两次热交换、电场辅助离子交换 | 第33-34页 |
| ·Ag+-Na+电场辅助离子交换流程 | 第34-38页 |
| ·基片的清洗 | 第35页 |
| ·铝膜的淀积 | 第35页 |
| ·光刻 | 第35-36页 |
| ·腐蚀和去胶 | 第36-37页 |
| ·热扩散离子交换 | 第37页 |
| ·电场辅助掩埋工艺 | 第37页 |
| ·研磨与抛光 | 第37-38页 |
| ·Ag~+-Na~+电场辅助离子交换的几个关键问题 | 第38-40页 |
| ·玻璃基材料 | 第38页 |
| ·掩埋深度对掩膜宽度的依赖 | 第38页 |
| ·一次交换掩膜问题 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 3 多模干涉器件 | 第42-52页 |
| ·多模干涉原理 | 第42-46页 |
| ·经典原理 | 第42-43页 |
| ·导模传输分析法 | 第43-46页 |
| ·多模干涉在渐变折射率中的特性 | 第46页 |
| ·器件应用 | 第46-50页 |
| ·1×N和N×N多模干涉耦合器 | 第47页 |
| ·MMI型2波长波分复用器 | 第47-48页 |
| ·MMI-MZI光开关 | 第48页 |
| ·阵列波长复用器 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 4 1×2和1×4功分器的设计和制作 | 第52-66页 |
| ·功分器的结构 | 第52-56页 |
| ·旁接波导结构 | 第52-53页 |
| ·Taper结构 | 第53-55页 |
| ·Slot结构 | 第55页 |
| ·Y分叉的改进 | 第55-56页 |
| ·1×2功分器结构的仿真 | 第56-59页 |
| ·MMI型1×2功分器设计 | 第56-58页 |
| ·Y分叉型1×2功分器设计 | 第58-59页 |
| ·1×4功分器的设计 | 第59-60页 |
| ·MMI型1×4功分器设计 | 第59页 |
| ·Y分叉型1×4功分器设计 | 第59-60页 |
| ·版图设计 | 第60-64页 |
| ·1×2版图 | 第60-62页 |
| ·1×4功分器版图 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 5 功分器的测试结果和分析 | 第66-76页 |
| ·工艺参数的确定 | 第66-69页 |
| ·器件实验结果 | 第69-72页 |
| ·结果分析 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 6 论文总结和展望 | 第76-78页 |
| ·论文总结 | 第76页 |
| ·论文展望 | 第76-78页 |
| 作者简历 | 第78页 |