| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·氧化锌材料简介 | 第9-13页 |
| ·氧化锌的晶格结构 | 第9-10页 |
| ·氧化锌的光学性质 | 第10页 |
| ·氧化锌的电学性质 | 第10页 |
| ·氧化锌的其他物理性质 | 第10-13页 |
| ·氧化锌材料研究的发展 | 第13页 |
| ·氧化锌薄膜的优点和应用 | 第13-16页 |
| ·氧化锌薄膜的优点 | 第13-14页 |
| ·氧化锌薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·氧化锌薄膜缓冲层 | 第14页 |
| ·氧化锌透明导电薄膜 | 第14-15页 |
| ·氧化锌薄膜发光器件 | 第15-16页 |
| ·氧化锌薄膜紫外探测器 | 第16页 |
| ·氧化锌薄膜的其他应用 | 第16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 氧化锌薄膜制备技术 | 第18-24页 |
| ·氧化锌薄膜的其他常用制备技术 | 第18-22页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第18-19页 |
| ·金属有机化学气相沉积（MOCVD） | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶（Sol-Gel） | 第21-22页 |
| ·磁控溅射法简介 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第22页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第22-24页 |
| 第三章 退火温度对氧化锌薄膜物性的影响 | 第24-43页 |
| ·磁控溅射制备氧化锌薄膜 | 第24-29页 |
| ·射频磁控溅射系统及管式实验炉设备 | 第24-25页 |
| ·射频磁控溅射系统和管式实验炉的操作流程及注意事项 | 第25-27页 |
| ·氧化锌薄膜样品的制备 | 第27-29页 |
| ·退火温度对氧化锌薄膜物性影响的研究 | 第29-41页 |
| ·不同退火温度对氧化锌薄膜表面形貌的影响 | 第29-34页 |
| ·不同退火温度对氧化锌薄膜晶体结构的影响 | 第34-38页 |
| ·不同退火温度氧化锌薄膜的光致发光光谱 | 第38-41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第四章 结论 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 研究生期间参加科研情况 | 第47页 |