| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·ZnO材料的发展 | 第8-9页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第9-15页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第9-11页 |
| ·ZnO的光学特性 | 第11页 |
| ·ZnO的电学特性 | 第11-12页 |
| ·ZnO的压电特性 | 第12-13页 |
| ·ZnO的压敏特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO的气敏特性 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的主要应用 | 第15-18页 |
| ·光波导器件 | 第15-16页 |
| ·透明导电薄膜 | 第16-17页 |
| ·光探测器 | 第17页 |
| ·其他应用 | 第17-18页 |
| ·ZnO的国内外发展现状 | 第18-19页 |
| ·国内ZnO研究的发展现状 | 第18页 |
| ·国外ZnO研究的发展现状 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备 | 第20-26页 |
| ·ZnO薄膜的一些制备方法 | 第20-23页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第20页 |
| ·化学气相沉积 | 第20-21页 |
| ·分子束外延 | 第21-22页 |
| ·溶胶—凝胶 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射法制备ZnO薄膜 | 第23-26页 |
| ·反应磁控溅射的基本原理 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射制备ZnO薄膜的优缺点 | 第24-26页 |
| 第三章 不同衬底温度下磁控溅射生长氧化锌薄膜及其物性研究 | 第26-45页 |
| ·磁控溅射生长氧化锌薄膜 | 第26-29页 |
| ·高真空磁控溅射沉积系统 | 第26-27页 |
| ·射频磁控溅射生长ZnO薄膜的操作流程 | 第27-29页 |
| ·衬底的清洗及实验方案 | 第29页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜物性的影响 | 第29-43页 |
| ·薄膜生长的工艺条件 | 第29-30页 |
| ·不同衬底温度生长的ZnO薄膜的表面形貌分析 | 第30-36页 |
| ·不同衬底温度生长的ZnO薄膜的晶体学性质探究 | 第36-41页 |
| ·不同衬底温度生长的ZnO薄膜的发光光谱 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第四章 结论 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 研究生期间参加科研情况 | 第49页 |