| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·巨磁阻抗(GMI)效应 | 第11-15页 |
| ·巨磁阻抗(GMI)效应的定义 | 第11-13页 |
| ·巨磁阻抗(GMI)效应的测量模式 | 第13-14页 |
| ·巨磁阻抗(GMI)效应的改善方法 | 第14页 |
| ·巨磁阻抗(GMI)效应的应用 | 第14-15页 |
| ·复合结构材料的巨磁阻抗效应研究现状 | 第15-18页 |
| ·复合结构丝的巨磁阻抗(GMI)效应研究 | 第15-17页 |
| ·三明治结构的巨磁阻抗(GMI)效应研究 | 第17-18页 |
| ·非晶条带和纳米晶条带的研究发展 | 第18-21页 |
| ·非晶条带的研究发展 | 第18页 |
| ·纳米晶条带的研究发展 | 第18-21页 |
| ·相互作用 | 第21-25页 |
| ·本文研究的目的和内容 | 第25-27页 |
| 第二章 样品的制备及表征 | 第27-36页 |
| ·非晶条带的制备 | 第27-28页 |
| ·真空退火炉 | 第28-29页 |
| ·复合结构样品的制备方法 | 第29-31页 |
| ·磁控溅射原理 | 第29-30页 |
| ·靶材与基片的预处理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射参数 | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜和原子力显微镜 | 第31-33页 |
| ·振动样品磁强计 | 第33-34页 |
| ·阻抗分析仪 | 第34页 |
| ·X射线衍射仪 | 第34-36页 |
| 第三章 Ni_(80)Fe_(20)厚度对Fe_(73.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9非晶条带软磁性的影响 | 第36-55页 |
| ·非晶条带光滑表面溅射Cu层系列 | 第36-39页 |
| ·非晶条带光滑表面溅射Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第39-44页 |
| ·样品的表面形貌 | 第39-40页 |
| ·样品的GMI效应 | 第40-43页 |
| ·样品的磁滞回线 | 第43-44页 |
| ·载玻片上溅射Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第44-48页 |
| ·表面形貌 | 第44-45页 |
| ·XRD图 | 第45-46页 |
| ·磁滞回线 | 第46-48页 |
| ·非晶条带非光滑表面溅射Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第48-50页 |
| ·非晶条带不同厚度三明治结构Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第50-52页 |
| ·样品的GMI效应 | 第50-51页 |
| ·样品的磁滞回线 | 第51-52页 |
| ·非晶条带光滑表面、非光滑表面、三明治结构260nmNi_(80)Fe_(20)的对比 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 Ni_(80)Fe_(20)厚度对Fe_(73.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9纳米晶条带软磁性的影响 | 第55-72页 |
| ·温度退火对Fe_(73.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9非晶条带软磁性能的影响 | 第55-58页 |
| ·温度退火后的GMI效应 | 第55-58页 |
| ·温度退火后的磁滞回线 | 第58页 |
| ·540℃退火的纳米晶条带光滑表面溅射Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第58-62页 |
| ·样品的XRD | 第58-59页 |
| ·样品的GMI效应 | 第59-61页 |
| ·样品的磁滞回线 | 第61-62页 |
| ·540℃退火的纳米晶条带光滑表面溅射Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第62-65页 |
| ·样品的GMI效应 | 第62-64页 |
| ·样品的磁滞回线 | 第64-65页 |
| ·540℃退火的纳米晶条带溅射三明治结构Ni_(80)Fe_(20)系列 | 第65-68页 |
| ·样品的GMI效应 | 第65-67页 |
| ·样品的磁滞回线 | 第67-68页 |
| ·纳米晶条带光滑表面、非光滑表面、三明治结构260nmNi_(80)Fe_(20)的对比 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-75页 |
| ·全文总结 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
