摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
目录 | 第10-13页 |
第1章 绪论 | 第13-37页 |
·微细加工技术 | 第13-24页 |
·自上而下的微细加工技术 | 第13-22页 |
·自下而上的微细加工技术 | 第22-24页 |
·静电诱导微细加工技术 | 第24-34页 |
·静电诱导微细加工技术的由来及其发展 | 第24-32页 |
·静电诱导微细加工技术的应用 | 第32-33页 |
·静电诱导微细加工技术亟待解决的问题 | 第33-34页 |
·论文的主要研究工作 | 第34-37页 |
第2章 平面模板电极静电诱导过程机理 | 第37-75页 |
·薄液膜的表面稳定性 | 第37-38页 |
·聚合物薄膜流体动力学分析 | 第38-43页 |
·润滑逼近条件 | 第38页 |
·系统假设条件 | 第38-43页 |
·聚合物薄膜界面应力及体积力分析 | 第43-48页 |
·静电力及应力差 | 第43-45页 |
·表面张力及应力差 | 第45-46页 |
·范德华力及应力差 | 第46页 |
·重力及其他体积力的法向应力 | 第46-48页 |
·线性稳定性分析 | 第48-54页 |
·主要工艺参数与周期性柱状微结构周期及特征时间之间的的关系 | 第54-73页 |
·不同参数下,柱状微结构周期随电压的变化规律 | 第54-59页 |
·不同参数下,柱状微结构周期随基底模板间距的变化规律 | 第59-63页 |
·不同参数下,柱状微结构周期随聚合物厚度的变化规律 | 第63-65页 |
·不同参数下,柱状微结构随相对介电常数的变化规律 | 第65-66页 |
·主要工艺参数对柱状微结构特征时间的影响 | 第66-73页 |
·本章小结 | 第73-75页 |
第3章 结构化模板几何参数对静电诱导过程的影响 | 第75-101页 |
·结构化模板的电场分析 | 第75-77页 |
·有限差分法模拟三维静电诱导过程 | 第77-92页 |
·当模板周期小于系统平均最不稳定波长时有限差分模拟 | 第77-86页 |
·当模板周期大于系统平均最不稳定波长时有限差分模拟 | 第86-92页 |
·微结构化模板静电诱导过程多场耦合瞬态有限元建模 | 第92-98页 |
·仿真模拟的三个控制方程 | 第92-94页 |
·高宽比对微结构化模板静电诱导过程的影响 | 第94-97页 |
·占空比对微结构化模板静电诱导过程的影响 | 第97-98页 |
·本章小结 | 第98-101页 |
·有限差分模拟小结 | 第98-99页 |
·有限元模拟小结 | 第99-101页 |
第4章 静电诱导实验关键工艺参数的研究 | 第101-115页 |
·UV-LIGA 技术中光刻与电镀工艺参数研究 | 第101-109页 |
·基片的制作 | 第102页 |
·基片的处理 | 第102-103页 |
·基片甩胶和前烘 | 第103-104页 |
·曝光 | 第104-106页 |
·显影 | 第106-107页 |
·电镀 | 第107-109页 |
·静电诱导实验工艺参数的影响 | 第109-113页 |
·静电诱导工艺流程 | 第109-110页 |
·静电诱导工艺参数的影响 | 第110-113页 |
·本章小结 | 第113-115页 |
第5章 静电诱导实验仪器设计及模板高保真复制实验 | 第115-133页 |
·静电诱导过程实现条件 | 第115-116页 |
·实验装置机械结构设计 | 第116-121页 |
·静电诱导过程影响因素—间距、平行度控制方式设计 | 第116-119页 |
·静电诱导过程影响因素——液化固化控制方式设计 | 第119-120页 |
·静电诱导过程影响因素——电压施加控制方式设计 | 第120-121页 |
·微结构高保真度复制实验 | 第121-131页 |
·实验一:栅线结构的高保真度复制实验及模拟对比 | 第121-126页 |
·实验二:栅线模板诱导正弦形貌微结构实验及模拟对比 | 第126-127页 |
·实验三:栅线模板诱导柱状形貌微结构实验及模拟对比 | 第127-128页 |
·实验四:其他微结构的高保真度复制 | 第128-131页 |
·本章小结 | 第131-133页 |
第6章 总结与展望 | 第133-137页 |
·总结 | 第133-134页 |
·在静电诱导的模拟方面 | 第133-134页 |
·在静电诱导的实验方面 | 第134页 |
·创新 | 第134-135页 |
·展望 | 第135-137页 |
参考文献 | 第137-147页 |
在学期间学术成果情况 | 第147-149页 |
指导教师及作者简介 | 第149-151页 |
致谢 | 第151页 |