| 内容提要 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-35页 |
| ·超导体的发展历史 | 第15-16页 |
| ·超导体的性质及分类 | 第16-19页 |
| ·零电阻 | 第16-17页 |
| ·完全抗磁性 | 第17-18页 |
| ·宏观量子效应 | 第18页 |
| ·超导体的分类 | 第18-19页 |
| ·高温超导材料概况 | 第19-20页 |
| ·高温超导技术发展与应用 | 第20-23页 |
| ·高温超导强电应用技术 | 第20-22页 |
| ·高温超导弱电应用技术 | 第22-23页 |
| ·REBa_2Cu_3O_7-δ(RE=Y,Gd)高温超导薄膜及涂层导体的发展 | 第23-32页 |
| ·YBa_2Cu_3O_7-δ高温超导材料简介 | 第23-25页 |
| ·GdBa_2Cu_3O_7-δ高温超导材料简介 | 第25-26页 |
| ·REBa_2Cu_3O_7-δ高温超导膜材料制备技术 | 第26-30页 |
| ·REBCO 涂层导体发展及遇到的问题 | 第30-32页 |
| ·论文的选题意义及主要内容 | 第32-35页 |
| 第2章 光辅助 MOCVD 系统及超导薄膜表征技术 | 第35-55页 |
| ·光辅助金属有机化学气相沉积（MOCVD）技术 | 第35-42页 |
| ·MOCVD 技术简介 | 第35-37页 |
| ·光激发优势理论 | 第37-38页 |
| ·本论文使用光辅助 MOCVD 系统介绍 | 第38-42页 |
| ·光辅助 MOCVD 技术制备 REBCO 超导薄膜 | 第42-47页 |
| ·衬底选择 | 第42-43页 |
| ·金属有机源 | 第43-45页 |
| ·制备 REBCO 超导薄膜的实验流程 | 第45-47页 |
| ·REBCO 超导薄膜的分析表征手段 | 第47-54页 |
| ·结晶质量分析 | 第47-48页 |
| ·形貌表征 | 第48-51页 |
| ·厚度测试 | 第51页 |
| ·成分分析 | 第51-53页 |
| ·电学性能测试 | 第53-54页 |
| 小结 | 第54-55页 |
| 第3章 光辅助 MOCVD 法制备 YBCO 厚膜研究 | 第55-87页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·YBCO 薄膜的生长模式及工艺条件 | 第55-60页 |
| ·薄膜的生长过程及生长模式 | 第55-57页 |
| ·热力学条件对 YBCO 薄膜生长的影响 | 第57-59页 |
| ·PhA-MOCVD 制备 YBCO 薄膜的工艺条件 | 第59-60页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜的影响 | 第60-69页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜结构的影响 | 第61-64页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜超导性能的影响 | 第66-69页 |
| ·生长 YBCO 薄膜的源温优化研究 | 第69-78页 |
| ·实验总体性介绍 | 第70-71页 |
| ·源温优化及其对 YBCO 薄膜的影响 | 第71-78页 |
| ·YBCO 超导厚膜的制备 | 第78-85页 |
| ·沉积速率 | 第79-80页 |
| ·薄膜形貌及晶体结构随膜厚度的变化 | 第80-83页 |
| ·超导性能随厚度的变化 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 第4章 GdBCO 外延膜制备及厚度效应的研究 | 第87-119页 |
| ·多层膜结构介绍及中间夹层材料的选择 | 第87-89页 |
| ·GdBCO 材料研究进展及本章的研究动机 | 第89-91页 |
| ·GdBCO 材料研究进展 | 第89-90页 |
| ·本章的研究动机 | 第90-91页 |
| ·衬底温度对 GdBCO 薄膜生长的影响 | 第91-97页 |
| ·实验条件 | 第91-92页 |
| ·衬底温度对 GdBCO 薄膜结构的影响 | 第92-94页 |
| ·衬底温度对 GdBCO 薄膜形貌的影响 | 第94-96页 |
| ·衬底温度对 GdBCO 薄膜超导性能的影响 | 第96-97页 |
| ·氧分压对 GdBCO 薄膜生长的影响 | 第97-103页 |
| ·实验条件 | 第97-98页 |
| ·氧分压对 GdBCO 薄膜结构的影响 | 第98-102页 |
| ·热力学条件对 GdBCO 薄膜影响的机理分析 | 第102-103页 |
| ·薄膜组分对超导性能的影响 | 第103页 |
| ·不同厚度 GdBCO 的可控生长 | 第103-117页 |
| ·沉积速率 | 第104-105页 |
| ·厚度对薄膜形貌的影响 | 第105-107页 |
| ·厚度对薄膜晶体结构的影响 | 第107-111页 |
| ·外延膜变厚过程中应力的变化 | 第111-113页 |
| ·不同厚度薄膜 PHI 扫描的孪峰现象分析 | 第113-115页 |
| ·不同厚度薄膜的氧含量变化 | 第115-116页 |
| ·超导性能随厚度的变化 | 第116-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 第5章 多层膜夹层材料 Y_2O_3的光辅助 MOCVD 生长研究 | 第119-145页 |
| ·研究背景 | 第119-121页 |
| ·界面改性方法提高超导材料性能的原理 | 第119页 |
| ·用于界面改性的非超导夹层材料的研究现状 | 第119-121页 |
| ·应力诱导自组装生长 Y_2O_3纳米结构的实验设计 | 第121-122页 |
| ·衬底热处理对应力诱导制备 Y_2O_3纳米薄层的影响 | 第122-127页 |
| ·衬底热处理实验方法 | 第122-123页 |
| ·经热处理后的图形化衬底对 Y_2O_3纳米薄层的影响 | 第123-127页 |
| ·生长温度对 Y_2O_3纳米薄层材料生长的影响 | 第127-134页 |
| ·实验条件 | 第127页 |
| ·生长温度对 Y_2O_3纳米薄层材料形貌的影响 | 第127-130页 |
| ·生长温度对 Y_2O_3纳米薄层材料结构的影响 | 第130-131页 |
| ·生长温度对 Y_2O_3纳米薄层材料尺寸及密度的影响 | 第131-133页 |
| ·生长温度影响 Y_2O_3纳米结构的机理 | 第133-134页 |
| ·氧分压对 Y_2O_3纳米薄层材料生长的影响 | 第134-139页 |
| ·实验条件 | 第134页 |
| ·氧分压对 Y_2O_3纳米薄层材料形貌的影响 | 第134-137页 |
| ·氧分压对 Y_2O_3纳米薄层材料尺寸及密度的影响 | 第137-138页 |
| ·氧分压对 Y_2O_3纳米薄层材料组分比例的影响 | 第138-139页 |
| ·生长时间对 Y_2O_3纳米薄层材料生长的影响 | 第139-142页 |
| ·实验条件 | 第140页 |
| ·生长时间对 Y_2O_3纳米薄层材料尺寸及密度的影响 | 第140-142页 |
| ·退火时间对 Y_2O_3纳米薄层材料生长的影响 | 第142-143页 |
| ·本章小结 | 第143-145页 |
| 结论 | 第145-149页 |
| 本论文的创新点 | 第149-151页 |
| 参考文献 | 第151-163页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第163-165页 |
| 致谢 | 第165-166页 |
