减反特性的微纳复合结构的制备和研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·微纳复合结构减反的起源 | 第10-11页 |
| ·减反效应在光伏电池中的应用研究 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-15页 |
| ·本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| ·本文的组织结构 | 第16-17页 |
| 第二章 湿法刻蚀 Si3N4掩膜层的制备 | 第17-28页 |
| ·PECVD 在单晶硅表面镀 Si3N4薄膜 | 第17-18页 |
| ·双光束干涉光刻制备正交微米结构 | 第18-21页 |
| ·干涉光刻原理 | 第18-19页 |
| ·实验部分 | 第19-21页 |
| ·光掩膜版曝光光刻制备蜂窝微米结构 | 第21-25页 |
| ·光掩膜版的制作 | 第21-24页 |
| ·光掩膜版图案转移 | 第24-25页 |
| ·RIE 刻蚀 Si3N4薄膜 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 单晶硅表面微米结构的制备 | 第28-38页 |
| ·各向异性腐蚀制备微米金字塔结构 | 第28-30页 |
| ·单晶硅各向异性腐蚀原理 | 第28-29页 |
| ·实验制备无序金字塔结构 | 第29-30页 |
| ·有序分布微米结构制备 | 第30-34页 |
| ·正交分布微米结构的制备 | 第31-33页 |
| ·蜂窝分布微米结构的制备 | 第33-34页 |
| ·微米结构反射特性的比较分析 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 单晶硅表面纳米结构的制备 | 第38-46页 |
| ·金纳米颗粒的制备 | 第38-42页 |
| ·制备原理 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-42页 |
| ·纳米结构的制备 | 第42-45页 |
| ·制备原理 | 第42-43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 微纳复合结构的制备 | 第46-50页 |
| ·微纳复合结构的制备 | 第46-48页 |
| ·微纳复合结构的减反特性 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·研究工作总结 | 第50页 |
| ·展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第56页 |
| 攻读学位期间公开发表的专利 | 第56-57页 |
| 攻读学位期间参与的项目 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
