| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-19页 |
| ·概述 | 第7-8页 |
| ·ZnO的结构与性质 | 第8-9页 |
| ·ZnO的结构 | 第8页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第8页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第8-9页 |
| ·ZnO薄膜的研究进展与应用 | 第9-12页 |
| ·研究进展 | 第9-10页 |
| ·应用前景 | 第10-12页 |
| ·掺杂对ZnO结构及性能的影响 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第14页 |
| ·磁控溅射技术(Magnetron Sputtering) | 第14-15页 |
| ·金属有机物气相外延(MOCVD) | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶技术(Sol-gel) | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第15-17页 |
| ·空心阴极离子镀(Hollow Cathode Deposition) | 第17页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第17-19页 |
| ·选题依据 | 第17页 |
| ·研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验方法及工艺研究 | 第19-25页 |
| ·实验设备 | 第19-21页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第19-20页 |
| ·空心阴极离子镀设备 | 第20-21页 |
| ·实验材料 | 第21-22页 |
| ·实验方案 | 第22-23页 |
| ·利用脉冲激光沉积法制备ZnO:Al薄膜 | 第22页 |
| ·空心阴极离子镀沉积N掺杂ZnO薄膜 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜的表征方法 | 第23-25页 |
| ·X射线衍射谱(XRD) | 第23页 |
| ·场发射扫描电镜(FESEM) | 第23页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第23页 |
| ·霍尔效应(Hall Effect) | 第23-25页 |
| 第三章 脉冲激光法沉积ZnO:Al薄膜 | 第25-38页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·Al掺杂ZnO薄膜结构特性 | 第26-29页 |
| ·Al掺杂ZnO薄膜的光学性能 | 第29-32页 |
| ·发光特性 | 第29-31页 |
| ·透光性能 | 第31-32页 |
| ·Al掺杂ZnO薄膜的电学特性 | 第32-34页 |
| ·基体温度对晶体结构和透光性能的影响 | 第34-36页 |
| ·基体温度对发光特性的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 空心阴极离子镀技术沉积N掺杂ZnO薄膜 | 第38-57页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·P型ZnO薄膜的制备工艺 | 第39-41页 |
| ·镀膜设备 | 第39-40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·以N_2为活性气体沉积P型ZnO薄膜 | 第41-49页 |
| ·样品的表面形貌分析 | 第41-44页 |
| ·X射线光电子谱分析 | 第44-46页 |
| ·霍尔效应测量 | 第46-49页 |
| ·以N_2O为活性气体沉积P型ZnO薄膜 | 第49-56页 |
| ·场发射扫描形貌分析 | 第49-51页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第51-53页 |
| ·霍尔效应检测 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 作者简介 | 第65页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第65-66页 |