| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·ZnO研究进展综述 | 第10-14页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-12页 |
| ·ZnO的基本性能参数 | 第12页 |
| ·ZnO薄膜的制备及应用 | 第12-14页 |
| ·材料科学中的薄膜生长及计算机模拟 | 第14-18页 |
| ·薄膜研究的计算机模拟现状 | 第14-16页 |
| ·薄膜生长过程 | 第16-18页 |
| ·影响薄膜形成的几个主要因素 | 第18页 |
| ·本文的研究内容及创新之处 | 第18-20页 |
| 第2章 分子动力学 | 第20-29页 |
| ·分子动力学研究的历史背景 | 第20-21页 |
| ·分子动力学(MD)模拟技术 | 第21-25页 |
| ·基本原理 | 第21页 |
| ·Gear预报—校正算法 | 第21-22页 |
| ·初始条件 | 第22页 |
| ·边界条件 | 第22-23页 |
| ·速度标定 | 第23-24页 |
| ·时间步长的选择 | 第24页 |
| ·微正则系综(NVE) | 第24-25页 |
| ·原子间相互作用势 | 第25-27页 |
| ·金属氧化物的势函数 | 第25页 |
| ·反应力场 | 第25-27页 |
| ·计算机模拟分析技术 | 第27-29页 |
| ·能量分析技术 | 第27页 |
| ·径向分布函数(RDF) | 第27-28页 |
| ·密度分布函数 | 第28-29页 |
| 第3章 Zn0(00l)衬底表面上沉积过程模拟研究 | 第29-54页 |
| ·模型和方法 | 第29-30页 |
| ·结果和分析 | 第30-53页 |
| ·衬底温度对沉积过程的影响 | 第30-38页 |
| ·沉积速率对沉积过程的影响 | 第38-46页 |
| ·氧环境变化对沉积过程的影响 | 第46-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第4章 ZnO(h00)衬底表面上沉积过程模拟研究 | 第54-75页 |
| ·模型和方法 | 第54页 |
| ·结果和分析 | 第54-73页 |
| ·衬底温度对沉积过程的影响 | 第55-61页 |
| ·沉积速率对沉积过程的影响 | 第61-67页 |
| ·氧环境变化对沉积过程的影响 | 第67-73页 |
| ·ZnO(h00)和(00l)面沉积过程对比分析和机理的探讨 | 第73-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 第5章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·结论 | 第75页 |
| ·展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
