摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第一章 抗生素类药物分析方法研究进展 | 第11-32页 |
·新兴污染物的概念及种类 | 第11页 |
·药物污染状况概述 | 第11-14页 |
·药物残留的环境影响 | 第11-12页 |
·抗生素用量 | 第12-13页 |
·抗生素进入环境的途径和归宿 | 第13-14页 |
·中国药物污染情况 | 第14-15页 |
·环境样品预处理 | 第15-19页 |
·水样预处理 | 第15-18页 |
·固相萃取(Solid Phase Extraction,SPE) | 第15-16页 |
·在线固相萃取(online SPE) | 第16-17页 |
·冻干法(Lyophilization) | 第17-18页 |
·土壤样品预处理 | 第18-19页 |
·加速溶剂萃取(Accelerated Solvent Extraction) | 第18页 |
·微波辅助萃取(Microwave-Assisted Extraction) | 第18页 |
·超声强化提取(Ultrasonic-Assisted Extraction) | 第18-19页 |
·样品检测 | 第19-22页 |
·LC-UV | 第19-20页 |
·LC-FLD | 第20-21页 |
·LC-MS | 第21页 |
·LC-MS/MS | 第21-22页 |
·UPLC | 第22页 |
·各种检测方法比较 | 第22页 |
·环境浓度预测 | 第22-23页 |
·已经报道的环境样品中药物残留状况 | 第23-25页 |
参考文献 | 第25-32页 |
第二章 钇-恩诺沙星体系荧光特性及其分析应用 | 第32-41页 |
·前言 | 第32页 |
·实验部分 | 第32-33页 |
·仪器与试剂 | 第32-33页 |
·实验方法 | 第33页 |
·结果与讨论 | 第33-39页 |
·荧光光谱 | 第33-34页 |
·体系荧光强度的影响因素 | 第34-36页 |
·酸度及缓冲溶液的选择 | 第34-35页 |
·Y~(3+)浓度的选择 | 第35页 |
·放置时间的影响 | 第35-36页 |
·线性范围及检测限 | 第36页 |
·干扰试验 | 第36-37页 |
·金属离子的干扰 | 第36-37页 |
·其它药物的干扰 | 第37页 |
·回收率试验 | 第37-38页 |
·样品测定 | 第38页 |
·发光机理 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-41页 |
第三章 血清中恩诺沙星的同步荧光法测定研究 | 第41-53页 |
·前言 | 第41-43页 |
·实验部分 | 第43-44页 |
·仪器与试剂 | 第43页 |
·实验方法 | 第43页 |
·血清预处理 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-50页 |
·Y~(3+)-ENRX体系同步荧光光谱 | 第44-45页 |
·实验条件优化 | 第45-47页 |
·pH值及缓冲溶液的选择 | 第45-46页 |
·Y~(3+)浓度的选择 | 第46-47页 |
·放置时间的影响 | 第47页 |
·线性范围及检测限 | 第47页 |
·干扰试验 | 第47-49页 |
·金属离子干扰试验 | 第47-48页 |
·药物干扰试验 | 第48-49页 |
·回收试验 | 第49页 |
·样品测定 | 第49-50页 |
·结论 | 第50页 |
参考文献 | 第50-53页 |
第四章 固相萃取-高效液相色谱法对水样中痕量氟喹诺酮类药物残留的测定 | 第53-66页 |
·前言 | 第53-55页 |
·实验部分 | 第55-57页 |
·仪器与试剂 | 第55-56页 |
·色谱条件 | 第56页 |
·取样及样品前处理 | 第56-57页 |
·结果与讨论 | 第57-63页 |
·检测波长的选择 | 第57页 |
·流动相的优化 | 第57页 |
·HPLC-FLD检测 | 第57-59页 |
·线性范围及检测限 | 第59页 |
·回收率试验 | 第59-60页 |
·精密度试验 | 第60页 |
·样品测定及结果分析 | 第60-63页 |
·样品测定结果 | 第60-61页 |
·四堡污水处理厂数据分析 | 第61-62页 |
·钱塘江数据分析 | 第62-63页 |
·存在的问题 | 第63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
·结论 | 第66页 |
·钇-恩诺沙星体系荧光特性及其分析应用 | 第66页 |
·同步荧光法对血清中恩诺沙星的测定 | 第66页 |
·固相萃取-高效液相色谱法对水样中痕量氟喹诺酮类药物残留的测定 | 第66页 |
·展望 | 第66-68页 |
硕士期间论文发表情况 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |