摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-13页 |
第一章 绪论 | 第13-29页 |
·引言 | 第13-14页 |
·高级氧化技术 | 第14-17页 |
·Fenton和Photo-Fenton氧化处理技术 | 第17-22页 |
·微反应器的发展及应用 | 第22-27页 |
·课题的提出 | 第27-29页 |
第二章 单分散三聚氰胺甲醛模板的制备与表征 | 第29-39页 |
·引言 | 第29-30页 |
·实验部分 | 第30-31页 |
·实验结果与讨论 | 第31-37页 |
·结论 | 第37-39页 |
第三章 软壳微反应器的制备及其性能研究 | 第39-49页 |
·引言 | 第39-40页 |
·实验部分 | 第40-42页 |
·实验结果与讨论 | 第42-47页 |
·结论 | 第47-49页 |
第四章 染料污染物在中空微胶囊上的富集及光降解研究 | 第49-59页 |
·引言 | 第49-50页 |
·实验部分 | 第50-52页 |
·实验结果与讨论 | 第52-57页 |
·结论 | 第57-59页 |
第五章 光催化活性组分在微胶囊上的承载、染料富集及光降解研究 | 第59-71页 |
·引言 | 第59-60页 |
·实验部分 | 第60-62页 |
·实验结果与讨论 | 第62-70页 |
·结论 | 第70-71页 |
第六章 结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-81页 |
致谢 | 第81-83页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第83-85页 |
作者和导师简介 | 第85-86页 |
附件 | 第86-87页 |