| 摘要 | 第1-15页 |
| Abstract | 第15-18页 |
| 主要创新和贡献 | 第18-19页 |
| 第1章 绪论 | 第19-63页 |
| ·纤维增韧碳化硅陶瓷基复合材料 | 第19-29页 |
| ·纤维 | 第20-24页 |
| ·界面 | 第24-26页 |
| ·基体 | 第26-27页 |
| ·涂层 | 第27-29页 |
| ·纤维增韧自愈合碳化硅陶瓷基复合材料 | 第29-33页 |
| ·自愈合组元 | 第30-31页 |
| ·自愈合原理与途径 | 第31-32页 |
| ·自愈合材料的性能与应用 | 第32-33页 |
| ·微结构表征方法 | 第33-36页 |
| ·透射电子显微分析 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第34页 |
| ·特征X射线能谱分析 | 第34-35页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第35-36页 |
| ·碳化硅陶瓷基复合材料的微结构研究现状与趋势 | 第36-42页 |
| ·纤维的微结构表征 | 第36-38页 |
| ·界面的微结构表征 | 第38-39页 |
| ·基体与涂层的微结构表征 | 第39-41页 |
| ·自愈合复合材料的微结构表征 | 第41-42页 |
| ·本文的选题依据和研究目标 | 第42-43页 |
| ·选题依据 | 第42页 |
| ·研究目标 | 第42-43页 |
| ·研究思路 | 第43页 |
| ·研究内容 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-63页 |
| 第2章 实验设备与研究方法 | 第63-71页 |
| ·试样的高温水氧环境处理装置 | 第63页 |
| ·电子显微分析样品的制备 | 第63-67页 |
| ·制样用实验设备 | 第63-64页 |
| ·扫描电子显微镜的样品制备 | 第64-65页 |
| ·透射电子显微镜的样品制备 | 第65-67页 |
| ·分析与测试方法 | 第67-70页 |
| ·分析测试用实验设备 | 第67-68页 |
| ·形貌与微结构分析 | 第68页 |
| ·组成与含量分析 | 第68页 |
| ·成键状态分析 | 第68-69页 |
| ·物相分析 | 第69页 |
| ·强度测试 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第3章 Hi-Niealon纤维在高温水氧环境中的力学性能和微结构变化 | 第71-105页 |
| ·引言 | 第71-72页 |
| ·实验方案 | 第72-74页 |
| ·实验材料和热处理工艺 | 第72页 |
| ·残余强度的测试方法 | 第72-74页 |
| ·原丝性能的评价方法 | 第74-79页 |
| ·整桶原丝直径分布 | 第75-76页 |
| ·整桶原丝的表面和断面缺陷分布 | 第76-78页 |
| ·整桶原丝直径和缺陷分布模型的建立 | 第78-79页 |
| ·惰性气氛高温处理后的纤维性能 | 第79-83页 |
| ·残余强度的变化 | 第80页 |
| ·微结构变化 | 第80-81页 |
| ·纤维在惰性气体高温处理后的性能演变机制 | 第81-83页 |
| ·水氧耦合环境高温处理后的纤维性能 | 第83-100页 |
| ·残余强度的变化 | 第83-84页 |
| ·断裂模式分析 | 第84-87页 |
| ·微结构的变化 | 第87-94页 |
| ·纤维在水氧耦合环境高温处理后的性能演变机制 | 第94-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-105页 |
| 第4章 含铝碳化硅纤维的微结构研究 | 第105-130页 |
| ·引言 | 第105页 |
| ·实验方案 | 第105-106页 |
| ·含铝SiC纤维的微结构 | 第106-126页 |
| ·晶粒尺寸和形态 | 第106-108页 |
| ·晶粒内部的典型缺陷 | 第108-111页 |
| ·晶体结构像的模拟 | 第111-115页 |
| ·Al在纤维中的作用 | 第115-121页 |
| ·铝元素的存在状态 | 第121-123页 |
| ·铝元素的存在位置 | 第123-125页 |
| ·Al-SiC纤维的结构模型 | 第125-126页 |
| ·本章小结 | 第126-127页 |
| 参考文献 | 第127-130页 |
| 第5章 CVD碳化硼的微结构和环境性能演变 | 第130-168页 |
| ·引言 | 第130页 |
| ·实验方案 | 第130-132页 |
| ·沉积产物的表征 | 第132-142页 |
| ·CVDB-C陶瓷的形貌特征 | 第133-137页 |
| ·CVDB-C陶瓷的物相和成分特征 | 第137-140页 |
| ·CVDB-C陶瓷的微结构特征 | 第140-142页 |
| ·非晶B-C陶瓷的晶化行为 | 第142-150页 |
| ·物相变化 | 第142-144页 |
| ·形貌变化 | 第144-145页 |
| ·微结构变化 | 第145-147页 |
| ·元素扩散 | 第147-150页 |
| ·晶化后的外延生长 | 第150页 |
| ·非晶态B-C陶瓷在水氧耦合环境中的微结构演变规律 | 第150-154页 |
| ·低温氧化 | 第151-152页 |
| ·中温氧化 | 第152-153页 |
| ·高温氧化 | 第153-154页 |
| ·SiC/非晶B-C/SiC涂层在水氧耦合环境中的微结构演变与氧化机制 | 第154-164页 |
| ·SiC/非晶B-C/SiC涂层的设计理念 | 第154-156页 |
| ·SiC/非晶B-C/SiC涂层氧化后的微结构演变 | 第156-160页 |
| ·水氧耦合环境中不同温度下的氧化控制机制 | 第160-164页 |
| ·本章小结 | 第164-166页 |
| 参考文献 | 第166-168页 |
| 第6章 CVD/CVIB-C陶瓷改性C_f/SiC复合材料的高温环境微结构演变 | 第168-194页 |
| ·引言 | 第168页 |
| ·CVD/CVIB-C陶瓷改性C_f/SiC复合材料的设计和制备 | 第168-170页 |
| ·改性材料的设计思路 | 第168-169页 |
| ·改性材料制备工艺流程 | 第169-170页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料的环境微结构演变 | 第170-181页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料的力学行为演变 | 第170-171页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料的重量变化 | 第171-172页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料的缺陷愈合 | 第172-177页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料中的裂纹扩展 | 第177-181页 |
| ·涂层改性C_f/SiC复合材料的坏境氧化行为探讨 | 第181页 |
| ·基体改性C_f/SiC复合材料的环境微结构演变 | 第181-192页 |
| ·基体改性C_f/SiC复合材料的力学行为演变 | 第181-182页 |
| ·基体改性C_f/SiC复合材料的重量变化 | 第182-183页 |
| ·基体改性C_f/Sic复合材料的缺陷愈合 | 第183-188页 |
| ·基体改性C_f/SiC复合材料中的裂纹扩展 | 第188-191页 |
| ·基体改性C_f/SiC复合材料的环境氧化行为探讨 | 第191-192页 |
| ·本章小结 | 第192-193页 |
| 参考文献 | 第193-194页 |
| 第7章 主要结论与展望 | 第194-197页 |
| 攻读博士期间发表或参与发表的论文 | 第197-199页 |
| 致谢 | 第199页 |
