在高活性干空气流动场中对TC4钛合金高频感应氧化工艺的研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·钛合金及其表面改性技术简介 | 第10-18页 |
| ·钛及钛合金的性能 | 第10-11页 |
| ·钛合金的应用现状及发展前景 | 第11-14页 |
| ·钛合金应用中的一些问题 | 第14页 |
| ·钛合金表面改性技术的发展概况 | 第14-18页 |
| ·钛合金高频感应氧化技术原理 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究意义、目的及内容 | 第20-22页 |
| ·研究目的及意义 | 第20页 |
| ·研究内容 | 第20-22页 |
| 2 试验研究 | 第22-29页 |
| ·试验材料 | 第22-23页 |
| ·试验基体材料 | 第22-23页 |
| ·试验试剂及氧化介质 | 第23页 |
| ·试验设备 | 第23-24页 |
| ·高频感应氧化处理系统 | 第23页 |
| ·氧化膜性能检测设备 | 第23-24页 |
| ·试验研究方法 | 第24-29页 |
| ·氧化膜制备的工艺过程 | 第24-26页 |
| ·氧化膜的性能检测 | 第26-29页 |
| 3 试验过程 | 第29-33页 |
| ·试验技术路线 | 第29页 |
| ·可行性探索试验 | 第29-32页 |
| ·系统研究试验 | 第32-33页 |
| 4 试验结果分析与讨论 | 第33-47页 |
| ·试验数据 | 第33-37页 |
| ·用数学方法分析试验参数的影响 | 第37-39页 |
| ·试验电流与处理温度的关系 | 第39-40页 |
| ·氧化膜性能与温度的关系 | 第40-41页 |
| ·氧化膜性能与时间的关系 | 第41-42页 |
| ·氧化膜的形貌分析 | 第42-45页 |
| ·氧化膜常见缺陷分析与讨论 | 第45-47页 |
| ·氧化层脱落 | 第45页 |
| ·氧化层裂纹 | 第45页 |
| ·膜层色泽不均匀 | 第45-47页 |
| 5 氧化膜形成机理探讨 | 第47-53页 |
| ·金属氧化机理 | 第47-48页 |
| ·氧化膜形成的条件分析 | 第48-51页 |
| ·氧化过程的一般描述 | 第48-49页 |
| ·氧化膜形成的热力学条件分析 | 第49-50页 |
| ·氧化膜形成的生长动力学分析 | 第50-51页 |
| ·氧化膜的生长动力学规律 | 第51-53页 |
| 6 与其他氧化工艺的对比分析 | 第53-57页 |
| ·钛合金微等离子体氧化工艺研究 | 第53-54页 |
| ·钛合金微等离子体氧化的原理及特点 | 第53页 |
| ·钛合金微等离子体氧化陶瓷膜的性能 | 第53-54页 |
| ·钛合金热氧化工艺研究 | 第54-55页 |
| ·钛合金热氧化工艺的原理及特点 | 第54-55页 |
| ·钛合金热氧化试验研究 | 第55页 |
| ·各表面处理技术之间的比较分析 | 第55-57页 |
| 7 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 附录：作者在攻读硕士期间发表的论文 | 第62页 |
