射频磁控溅射法制备类金刚石薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-24页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·类金刚石的成分与结构 | 第11-13页 |
| ·类金刚石的微结构 | 第11-12页 |
| ·类金刚石的结构分析 | 第12-13页 |
| ·类金刚石膜的制备 | 第13-17页 |
| ·物理气相沉积 | 第13-16页 |
| ·化学气相沉积 | 第16-17页 |
| ·类金刚石的性能 | 第17-19页 |
| ·类金刚石的力学性能 | 第17-18页 |
| ·DLC膜的光学性能 | 第18页 |
| ·DLC膜的电学性能 | 第18-19页 |
| ·类金刚石膜的应用 | 第19-21页 |
| ·光学领域上的应用 | 第19-20页 |
| ·机械方面的应用 | 第20页 |
| ·电子器件上的应用 | 第20-21页 |
| ·声学领域应用 | 第21页 |
| ·医学上的应用 | 第21页 |
| ·研究中存在的问题 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 膜系的设计与分析 | 第24-38页 |
| ·膜系设计的基本理论 | 第24-30页 |
| ·薄膜光学理论 | 第24-26页 |
| ·膜系设计的一般原理 | 第26-28页 |
| ·膜系评价函数 | 第28页 |
| ·最优化方法 | 第28-30页 |
| ·增透保护膜系设计 | 第30页 |
| ·DLC膜系的设计 | 第30-36页 |
| ·膜系结构偏差分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 工艺实验方法和内容 | 第38-52页 |
| ·射频磁控溅射镀膜的基本原理 | 第38-40页 |
| ·试验设备 | 第40-43页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第43-44页 |
| ·工艺流程 | 第44-45页 |
| ·薄膜的分析检测 | 第45-51页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第45-46页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第46-48页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第48-49页 |
| ·红外光学性能测量 | 第49-50页 |
| ·薄膜硬度的测量 | 第50页 |
| ·薄膜附着力的测量方法 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第52-69页 |
| ·无氢 DLC膜的制备 | 第52-59页 |
| ·主要工艺参数对沉积速率的影响规律 | 第52-54页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第54-59页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第59页 |
| ·含氢 DLC薄膜的制备 | 第59-66页 |
| ·工艺参数对沉积速率的影响 | 第60-62页 |
| ·结构分析 | 第62-63页 |
| ·薄膜表面形貌及成份分析 | 第63-65页 |
| ·红外光谱分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜的附着性评价 | 第66-67页 |
| ·ZnS衬底上DLC/GaP膜系的制备及研究 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 参加的科研项目 | 第73页 |
| 发表的论文 | 第73页 |
| 所获得的奖励 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
