无机溶胶—凝胶法制备掺钨二氧化钒薄膜研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-13页 |
| ·VO_2和V_2O_5的基本物理化学性质 | 第10-11页 |
| ·V_2O_5的结构 | 第11页 |
| ·VO_2结构及能带变化 | 第11-13页 |
| ·VO_2薄膜的典型性质 | 第13-15页 |
| ·相变及相变温度 | 第13-14页 |
| ·电阻(率)及光学透过率突变 | 第14-15页 |
| ·其它性质 | 第15页 |
| ·掺杂对相变的影响 | 第15-16页 |
| ·二氧化钒薄膜的主要制备方法 | 第16-18页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第16-17页 |
| ·溅射法 | 第17页 |
| ·反应蒸发法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD法) | 第17-18页 |
| ·掺杂VO_2薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·反应蒸发镀掺杂 | 第18页 |
| ·溶胶—凝胶掺杂 | 第18-19页 |
| ·溅射掺杂法 | 第19页 |
| ·离子注入掺杂 | 第19页 |
| ·水热合成掺杂法 | 第19页 |
| ·钒资源及其钒产品开发简况 | 第19-22页 |
| ·钒资源储量 | 第19-21页 |
| ·攀钢现有钒产品及其研发简况 | 第21-22页 |
| ·VO_2薄膜应用前景展望 | 第22-24页 |
| ·太阳能控温材料 | 第23页 |
| ·红外脉冲激光辐射保护膜 | 第23-24页 |
| ·红外辐射测热计和热敏电阻 | 第24页 |
| ·高灵敏度应变计的优选材料 | 第24页 |
| ·光开关 | 第24页 |
| ·三氧化钨(WO_3)溶胶的制备方法 | 第24-26页 |
| ·钨的醇盐水解法 | 第25页 |
| ·钨酸盐的离子交换法 | 第25页 |
| ·氯化钨的醇盐水解法 | 第25-26页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第26页 |
| ·论文的选题 | 第26-27页 |
| ·论文研究的目的和意义 | 第26页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第26-27页 |
| 第二章 掺钨二氧化钒薄膜的制备及表征 | 第27-52页 |
| ·实验 | 第27-30页 |
| ·原料、试剂及测试表征方法 | 第27页 |
| ·掺钨VO_2薄膜制备的工艺流程 | 第27-29页 |
| ·实验装置图 | 第29-30页 |
| ·实验原理 | 第30-32页 |
| ·V_2O_5水淬制胶原理 | 第30-31页 |
| ·H_2还原V_2O_5的热力学计算 | 第31-32页 |
| ·实验研究 | 第32-34页 |
| ·稳定的五氧化二钒溶胶制备 | 第32页 |
| ·稳定的三氧化钨溶胶制备 | 第32-33页 |
| ·稳定的五氧化二钒和三氧化钨混合溶胶制备 | 第33-34页 |
| ·薄膜的表征 | 第34-44页 |
| ·提拉速度的影响 | 第34页 |
| ·薄膜的颜色变化 | 第34-35页 |
| ·光学显微镜测微观形貌 | 第35-37页 |
| ·XRD物相及相对含量 | 第37-44页 |
| ·薄膜的性能检测 | 第44-50页 |
| ·薄膜的电学性能的检测 | 第44-46页 |
| ·掺钨量的不同对相变温度的影响 | 第46-47页 |
| ·薄膜的光学性能的检测 | 第47-49页 |
| ·薄膜中元素价态分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第三章 还原处理过程中水分压对薄膜性能的影响 | 第52-67页 |
| ·实验原理 | 第52-59页 |
| ·氢气还原三氧化钨及五氧化二钒的反应热力学 | 第52-59页 |
| ·实验 | 第59-66页 |
| ·实验内容 | 第59页 |
| ·结果及讨论 | 第59-66页 |
| ·光学显微镜测微观形貌 | 第59-61页 |
| ·XRD物相分析 | 第61-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 全文总结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 本论文的创新点 | 第72-73页 |
| 作者在读期间科研成果简介 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
