金属/氧化物、半导体/氧化物多层膜的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·纳米薄膜/多层膜 | 第9-13页 |
| ·纳米薄膜/多层膜概念 | 第9-10页 |
| ·纳米薄膜/多层膜性质 | 第10-11页 |
| ·纳米薄膜/多层膜应用 | 第11-13页 |
| ·太阳电池发展及论文的背景 | 第13-15页 |
| ·太阳电池发展 | 第13-15页 |
| ·本论文的背景 | 第15页 |
| ·论文工作构思及主要内容 | 第15-18页 |
| ·论文工作构思 | 第15-17页 |
| ·论文工作的主要内容 | 第17-18页 |
| 本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜制备方法、生长原理和表征技术 | 第19-31页 |
| ·薄膜制备方法 | 第19-24页 |
| ·真空蒸发沉积 | 第19-21页 |
| ·溅射镀膜法 | 第21-22页 |
| ·分子束外延 | 第22页 |
| ·化学气相沉积 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| ·氧化法 | 第23-24页 |
| ·薄膜生长原理 | 第24-25页 |
| ·薄膜形成初期发生的现象 | 第24页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第24-25页 |
| ·薄膜表征技术 | 第25-30页 |
| ·膜厚测量 | 第25-26页 |
| ·薄膜形貌结构表征 | 第26-28页 |
| ·薄膜光电性能检测 | 第28-30页 |
| 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 金属康化物多层膜的研究 | 第31-61页 |
| ·实验方法 | 第31-33页 |
| ·Al/Al_2O_3多层膜实验结果与分析 | 第33-41页 |
| ·U-I性能检测 | 第34-38页 |
| ·SEM与 EDS分析 | 第38-40页 |
| ·XRD分析 | 第40-41页 |
| ·Cr/Cr_2O_3多层膜实验结果与分析 | 第41-47页 |
| ·U-I性能检测 | 第41-46页 |
| ·SEM与EDS分析 | 第46页 |
| ·XRD分析 | 第46-47页 |
| ·金属/氧化物多层膜U-I性能分析 | 第47-54页 |
| ·金属/氧化物多层膜U-I性能比较 | 第47-52页 |
| ·金属/氧化物多层膜U-I性能比较结果分析 | 第52-54页 |
| ·金属/氧化物多层膜光学性能检测与分析 | 第54-58页 |
| ·不同对层数光学性能检测 | 第54-55页 |
| ·热处理前后光学性能检测 | 第55-56页 |
| ·金属/氧化物光学性能分析 | 第56-58页 |
| ·金属/氧化物多层膜类负阻特性形成的原因分析讨论 | 第58-59页 |
| 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 硅/氧化硅多层膜的研究 | 第61-83页 |
| ·实验方法 | 第61-64页 |
| ·硅/氧化硅多层膜实验结果与分析 | 第64-76页 |
| ·U-I性能检测 | 第65-71页 |
| ·SEM与 EDS分析 | 第71-72页 |
| ·TEM分析 | 第72-73页 |
| ·XRD分析 | 第73-74页 |
| ·半导体/氧化物光学性能检测 | 第74-76页 |
| ·加热对多层膜性能影响 | 第76-81页 |
| ·对光学性能影响 | 第77-78页 |
| ·对表面形貌影响 | 第78-79页 |
| ·对多层膜结构的影响 | 第79-80页 |
| ·对U-I特性的影响 | 第80-81页 |
| ·加热对多层膜性能影响讨论分析 | 第81页 |
| ·半导体多层膜类负阻特性形成原因分析讨论 | 第81-82页 |
| 本章小结 | 第82-83页 |
| 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
