| 第一部分 综述 | 第1-33页 |
| 第一节 化学发光法 | 第9页 |
| 第二节 分子印迹技术及其应用 | 第9-32页 |
| 1、引言 | 第9页 |
| 2、分子印迹技术的特点 | 第9-10页 |
| 3、分子印迹技术理论 | 第10-13页 |
| 4、分子印迹聚合物的制备 | 第13-15页 |
| 5、分子印迹技术和分子印迹聚合物的应用 | 第15-30页 |
| 6、分子印迹技术的现存问题及其发展趋势 | 第30-32页 |
| 第三节 本论文研究工作的目的 | 第32-33页 |
| 第二部分 研究报告 | 第33-70页 |
| 1、吩噻嗪类药物在铁氰化钾-鲁米诺体系中后化学发光行为的研究——分子印迹-后化学发光法测定盐酸氯丙嗪 | 第33-41页 |
| 2、奋乃静分子印迹-化学发光传感器的研究 | 第41-51页 |
| 3、吩噻嗪类药物在铁氰化钾-鲁米诺体系中的后化学发光反应机理 | 第51-55页 |
| 4、高锰酸钾-鲁米诺化学发光体系分子印迹-后化学发光法测定盐酸氯丙嗪 | 第55-64页 |
| 5、高锰酸钾-鲁米诺化学发光体系分子印迹-后化学发光法测定奋乃静 | 第64-70页 |
| 总结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第102页 |