Ni-B纳米晶体箔的制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| 1．1 纳米材料的特性及应用 | 第7-12页 |
| 1．2 纳米材料制备方法 | 第12-19页 |
| 1．2．1 纳米粉体制备方法 | 第12-14页 |
| 1．2．2 纳米薄膜制备方法 | 第14-15页 |
| 1．2．3 纳米块体制备方法 | 第15-16页 |
| 1．2．4 非晶晶化法 | 第16-19页 |
| 1．3 化学镀镍硼研究现状 | 第19-22页 |
| 1．4 本文研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章试验过程 | 第23-28页 |
| 2．1 试验用材料、仪器 | 第23-24页 |
| 2．2 纳米晶箔的制备 | 第24-26页 |
| 2．2．1 化学镀铜 | 第24-25页 |
| 2．2．2 化学镀镍硼 | 第25-26页 |
| 2．2．3 制备镍硼箔膜 | 第26页 |
| 2．2．4 箔膜的晶化处理 | 第26页 |
| 2．3 沉积速率的测定 | 第26-27页 |
| 2．4 分析方法 | 第27页 |
| 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 试验结果分析及讨论 | 第28-58页 |
| 3．1 化学镀铜 | 第28-30页 |
| 3．2 化学镀镍硼 | 第30-41页 |
| 3．2．1 镀液成分对镍硼沉积速度的影响 | 第30-38页 |
| 3．2．2 镍硼镀层生长方式 | 第38-41页 |
| 3．3 镍硼箔镀态性质 | 第41-48页 |
| 3．3．1 硼含量 | 第41-44页 |
| 3．3．2 晶化温度 | 第44-45页 |
| 3．3．3 镀态形貌 | 第45-48页 |
| 3．4 镍硼箔层的晶化 | 第48-57页 |
| 3．4．1 晶化后形貌 | 第50-52页 |
| 3．4．2 晶粒大小测定 | 第52-55页 |
| 3．4．2 纳米箔层腐蚀性 | 第55-56页 |
| 3．4．3 纳米箔显微硬度 | 第56-57页 |
| 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
